特許
J-GLOBAL ID：201703000731013215

レーザ測距較正方法およびこれを用いた装置

発明者：
陳 豪 宇

陳 豪 宇 について

, 
洪 士 哲

洪 士 哲 について


出願人/特許権者：
恩斯邁電子(深▲しん▼)有限公司

恩斯邁電子(深▲しん▼)有限公司 について


代理人 (1件)： 特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-030561
公開番号（公開出願番号）：特開2017-072575
出願日： 2016年02月22日
公開日（公表日）： 2017年04月13日
要約：
【課題】相対的な位置のずれ相関位置誤差によって生じた計測誤差を較正または補正するレーザ測距方法とレーザ測距計を提供する。【解決手段】ラインレーザ生成モジュール1100は、第1の位置から第1の方向にラインレーザ光線を照射する。第2の位置における撮像モジュール1200は、第1の方向における測距画像を撮像する。測距画像が第1の幅を有するキャリブレーションターゲット2000のキャリブレーションターゲット画像を含む場合、処理モジュールはキャリブレーションターゲット画像上のレーザスポットのラインスポット画像の位置に応じてキャリブレーションターゲット2000の計測幅を演算し、第1の幅と計測幅とに応じて較正パラメータを取得し、測距画像に示されたレーザスポットに応じて測距を実施し、較正パラメータを用いて較正作業を実施する。【選択図】図1B
請求項（抜粋）：
第1の幅を有するキャリブレーションターゲットの表面にレーザスポットを形成するため、第1の位置に設置された線状レーザ生成モジュールから前記キャリブレーションターゲットに第1の方向からラインレーザビームを照射する第1のステップと、 前記第1の位置と相対的な位置関係を有する第2の位置に設置された撮像モジュールにより、前記レーザスポットにおけるラインスポット画像とキャリブレーションターゲットのキャリブレーションターゲット画像とを含む前記第1の方向の測距画像を撮像する第2のステップと、 前記測距画像における前記ラインスポット画像の位置に応じた前記キャリブレーションターゲットの計測幅を計算する第3のステップと、 前記第1の幅と前記計測幅とに応じて較正パラメータを取得する第4のステップと、 前記ラインレーザ生成モジュールと前記撮像モジュールとによって測距作業を実行し、前記較正パラメータに応じて較正作業を実行する第5のステップと を有することを特徴とするレーザ測距較正方法。
IPC (2件)：
G01C 3/00 ,  G01C 3/06
FI (2件)：
G01C3/00 120 ,  G01C3/06 110A
Fターム (11件)：
2F112AA09 ,  2F112BA06 ,  2F112CA12 ,  2F112DA32 ,  2F112EA01 ,  2F112FA03 ,  2F112FA07 ,  2F112FA21 ,  2F112FA25 ,  2F112FA35 ,  2F112FA45
引用特許：
審査官引用 (4件)
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