特許
J-GLOBAL ID：201703001088528713

レジスト光硬化性組成物、プリント配線板及び電子部品の製造方法

発明者：
西村 貴史

西村 貴史 について

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▲高▼橋 駿夫

▲高▼橋 駿夫 について

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金 千鶴

金 千鶴 について


出願人/特許権者：
積水化学工業株式会社

積水化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 宮▲崎▼・目次特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-112895
公開番号（公開出願番号）：特開2017-002294
出願日： 2016年06月06日
公開日（公表日）： 2017年01月05日
要約：
【課題】酸化チタンが使用されていることにより、光の反射率が高いレジスト膜を得ることができ、更にレジスト膜の耐湿性及び密着性と、光硬化性組成物の保存安定性とを両立することができるレジスト光硬化性組成物を提供する。【解決手段】本発明に係るレジスト光硬化性組成物は、光硬化性化合物と、硫黄原子含有化合物と、塩素法ルチル型酸化チタンと、光重合開始剤とを含み、エポキシ化合物を含まないか、又は、エポキシ化合物を10重量%未満で含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光硬化性化合物と、 硫黄原子含有化合物と、 塩素法ルチル型酸化チタンと、 光重合開始剤とを含み、 エポキシ化合物を含まないか、又は、エポキシ化合物を10重量%未満で含む、レジスト光硬化性組成物。
IPC (5件)：
C08F 2/48 ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/004 ,  H05K 3/28 ,  C08F 2/44
FI (5件)：
C08F2/48 ,  G03F7/027 502 ,  G03F7/004 501 ,  H05K3/28 D ,  C08F2/44 A
Fターム (47件)：
2H225AC37 ,  2H225AC53 ,  2H225AC58 ,  2H225AC63 ,  2H225AD07 ,  2H225AD15 ,  2H225AE15P ,  2H225AN56P ,  2H225AN72P ,  2H225AN73P ,  2H225AP09P ,  2H225AP10P ,  2H225AP15P ,  2H225BA13P ,  2H225BA20P ,  2H225BA33P ,  2H225CA13 ,  2H225CB02 ,  2H225CC01 ,  2H225CC13 ,  4J011AA05 ,  4J011AC04 ,  4J011PA07 ,  4J011PA45 ,  4J011PA86 ,  4J011PB22 ,  4J011PB30 ,  4J011PC02 ,  4J011QB13 ,  4J011QB19 ,  4J011QB24 ,  4J011RA11 ,  4J011SA84 ,  4J011TA06 ,  4J011TA09 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA02 ,  4J011XA02 ,  5E314AA27 ,  5E314AA33 ,  5E314AA34 ,  5E314AA42 ,  5E314BB01 ,  5E314FF06 ,  5E314GG01 ,  5E314GG11
引用特許：
審査官引用 (6件)
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