特許
J-GLOBAL ID:201703001218452331

表面処理方法、及び電気光学装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 渡辺 和昭 ,  西田 圭介 ,  仲井 智至
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-145227
公開番号(公開出願番号):特開2015-018102
特許番号:特許第6191293号
出願日: 2013年07月11日
公開日(公表日): 2015年01月29日
請求項(抜粋):
【請求項1】 シランカップリング剤を気化させた雰囲気中に、斜方蒸着膜が形成された基板を晒して前記斜方蒸着膜の表面処理を行う表面処理方法であって、 前記雰囲気中に、水分を補うための斜方蒸着膜が形成されたダミー基板を前記基板と同時に晒して表面処理を行うことを特徴とする表面処理方法。
IPC (1件):
G02F 1/1337 ( 200 6.01)
FI (1件):
G02F 1/133 515
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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