特許
J-GLOBAL ID:201703001894832015

光断層計測装置および光断層計測方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-206746
公開番号(公開出願番号):特開2017-078645
出願日: 2015年10月20日
公開日(公表日): 2017年04月27日
要約:
【課題】計測時間を低減し、装置を小型化し、z軸方向(光軸方向)の空間分解能を向上させる。【解決手段】計測試料(OB)に対するレーザ光の照射により生じた多重散乱光からなる反射信号光の光複素振幅を計測した結果である光複素振幅情報を取得する光複素振幅計測器(17)と、取得した光複素振幅情報に4f結像光学系の伝達関数を乗算し、その乗算結果にフーリエ変換を施すことによって形成される仮想4f光学系の出力結果を演算するコンピュータ(21)と、を備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
物体の断層を計測する光断層計測装置であって、 上記物体に対するレーザ光の照射により生じた多重散乱光からなる反射信号光の光複素振幅を計測した結果である光複素振幅情報を取得する光複素振幅情報取得部と、 取得した光複素振幅情報に4f結像光学系の伝達関数を乗算し、その乗算結果にフーリエ変換を施すことによって形成される仮想4f光学系の出力結果を演算する演算処理部と、を備えることを特徴とする光断層計測装置。
IPC (3件):
G01N 21/17 ,  G01B 11/24 ,  G02B 21/00
FI (3件):
G01N21/17 620 ,  G01B11/24 B ,  G02B21/00
Fターム (42件):
2F065AA52 ,  2F065CC16 ,  2F065DD02 ,  2F065DD03 ,  2F065DD06 ,  2F065FF00 ,  2F065FF10 ,  2F065FF41 ,  2F065GG04 ,  2F065LL04 ,  2F065LL10 ,  2F065LL30 ,  2F065LL46 ,  2F065LL62 ,  2F065MM16 ,  2F065MM26 ,  2F065MM28 ,  2F065PP11 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ21 ,  2F065UU05 ,  2G059AA05 ,  2G059BB08 ,  2G059BB12 ,  2G059BB15 ,  2G059CC16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059GG01 ,  2G059HH02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01 ,  2H052AA08 ,  2H052AC15 ,  2H052AC34 ,  2H052AF03 ,  2H052AF14 ,  2H052AF25

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