特許
J-GLOBAL ID:201703001908897913

断熱層の形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人前田特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-259379
公開番号(公開出願番号):特開2015-117583
特許番号:特許第6102716号
出願日: 2013年12月16日
公開日(公表日): 2015年06月25日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基材上に、中空状粒子とバインダ材とを含む断熱層を形成する方法であって、 前記中空状粒子の外表面を、保護膜前駆体を含む溶液に接触させる接触工程と、 前記溶液に接触させた前記中空状粒子を熱処理により乾燥して、該中空状粒子の外表面に保護膜を形成する保護膜形成工程と、 前記外表面に保護膜が形成された中空状粒子と、前記バインダ材を含む溶液とを混合して混合溶液を調製する混合工程と、 前記混合溶液を前記基材の表面に塗布する塗布工程と、 前記基材表面に塗布された混合溶液を、前記保護膜形成工程における熱処理よりも高温で焼成する焼成工程とを備えていることを特徴とする断熱層の形成方法。
IPC (5件):
F02F 3/10 ( 200 6.01) ,  F02F 3/00 ( 200 6.01) ,  F02F 1/00 ( 200 6.01) ,  F02F 1/18 ( 200 6.01) ,  F02F 1/42 ( 200 6.01)
FI (6件):
F02F 3/10 B ,  F02F 3/00 G ,  F02F 1/00 G ,  F02F 1/18 F ,  F02F 1/42 A ,  F02F 1/42 B
引用特許:
出願人引用 (7件)
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