特許
J-GLOBAL ID:201703002429057842
R-T-B系磁石の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-191753
公開番号(公開出願番号):特開2017-069337
出願日: 2015年09月29日
公開日(公表日): 2017年04月06日
要約:
【課題】重希土類元素をできるだけ使用することなく、高いHcJを有するR-T-B系磁石の製造方法の提供。【解決手段】[T1]/[X]のmol比が13.6以上であることを主たる特徴とするR1-T1-X(R1は主としてNd、T1は主としてFe、Xは主としてB)系合金バルク体を準備する工程、R2-Ga-Cu(R2は主としてPrおよび/またはNdであり65mol%以上95mol%以下、[Cu]/([Ga]+[Cu])がmol比で0.1以上0.9以下)系合金を準備する工程、R1-T1-X系合金バルク体表面の少なくとも一部にR2-Ga-Cu系合金の少なくとも一部を接触させ、450°C以上600°C以下の温度で熱処理する工程、を含む。【選択図】図1
請求項(抜粋):
R-T-B(Rは希土類元素のうち少なくとも一種でありNdを必ず含み、Tは遷移金属元素のうち少なくとも一種でありFeを必ず含み、Bの一部をCで置換することができる)系磁石の製造方法であって、
平均結晶粒径が1μm以下で磁気的異方性を有する、R1-T1-X(R1は希土類元素のうち少なくとも一種でありNdを必ず含み、27mass%以上35mass%以下であり、T1はFeまたはFeとMであり、MはGa、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Zn、Ge、Zr、Nb、Mo、Agから選択される一種以上であり、XはBでありBの一部をCで置換することができ、[T1]/[X]のmol比が13.6以上である)系合金バルク体を準備する工程と、
R2-Ga-Cu(R2は希土類元素のうち少なくとも一種でありPrおよび/またはNdを必ず含み、65mol%以上95mol%以下であり、[Cu]/([Ga]+[Cu])がmol比で0.1以上0.9以下である)系合金を準備する工程と、
前記R1-T1-X系合金バルク体の表面の少なくとも一部に、前記R2-Ga-Cu系合金の少なくとも一部を接触させ、真空又は不活性ガス雰囲気中、450°C以上600°C以下の温度で熱処理をする工程と、
を含むR-T-B系磁石の製造方法。
IPC (9件):
H01F 41/02
, H01F 1/057
, H01F 1/08
, C22C 38/00
, C22C 28/00
, C22C 33/02
, B22F 3/24
, B22F 1/00
, B22F 3/00
FI (10件):
H01F41/02 G
, H01F1/04 H
, H01F1/08 A
, C22C38/00 303D
, C22C28/00 A
, C22C33/02 H
, B22F3/24 K
, B22F1/00 R
, B22F3/00 F
, B22F1/00 Y
Fターム (21件):
4K018AA27
, 4K018BA18
, 4K018BA20
, 4K018BB04
, 4K018BC08
, 4K018CA04
, 4K018EA01
, 4K018FA08
, 4K018FA11
, 4K018FA12
, 4K018KA45
, 5E040AA04
, 5E040CA01
, 5E040HB07
, 5E040HB11
, 5E040NN01
, 5E040NN06
, 5E040NN18
, 5E062CD04
, 5E062CE04
, 5E062CG02
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
ヘッドスライダ
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-242687
出願人:ヒタチグローバルストレージテクノロジーズネザーランドビーブイ
-
希土類含有バルク磁石の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-065608
出願人:日立粉末冶金株式会社, 日産自動車株式会社
前のページに戻る