特許
J-GLOBAL ID:201703002502256735

積層体及び積層体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 志賀 正武 ,  森 隆一郎 ,  飯田 雅人 ,  大浪 一徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-213832
公開番号(公開出願番号):特開2017-119423
出願日: 2016年10月31日
公開日(公表日): 2017年07月06日
要約:
【課題】基材、導電層及び被覆層がこの順に積層された積層体として、形成済みの被覆層の貼付工程を行うことなく製造可能であり、湿熱条件下でも積層体全体のヘーズの変化が抑制される積層体、及びその製造方法の提供。【解決手段】基材11、導電層12及び被覆層13がこの順に積層された積層体1において、被覆層13側から測定したヘーズがH0である積層体1を、温度85°C、相対湿度85%の雰囲気下で280時間処理した後、被覆層13側から測定した積層体1のヘーズをH280としたときに、下記式(I280)により算出される積層体1のヘーズ変化率ΔH280が80%以下となるように構成する(ΔH280(%)=(H280-H0)/H0×100 ・・・・(I280))。【選択図】図1
請求項(抜粋):
積層体であって、 基材と、 前記基材上に設けられた導電層と、 前記導電層上に設けられた被覆層と、を備え、 前記被覆層側から測定した第1のヘーズがH0である前記積層体を、温度85°C、相対湿度85%の雰囲気下で280時間処理した後、前記被覆層側から測定した前記積層体の第2のヘーズをH280と定義したときに、 式I280:ΔH280(%)=(H280-H0)/H0×100により算出される前記積層体のヘーズ変化率ΔH280が80%以下である積層体。
IPC (3件):
B32B 7/02 ,  B05D 5/00 ,  H01B 5/14
FI (3件):
B32B7/02 104 ,  B05D5/00 F ,  H01B5/14 A
Fターム (39件):
4D075CA13 ,  4D075CA22 ,  4D075CA40 ,  4D075CB06 ,  4D075DB48 ,  4D075DC21 ,  4D075EA19 ,  4D075EA21 ,  4D075EB22 ,  4D075EB38 ,  4D075EC30 ,  4F100AB17B ,  4F100AB24B ,  4F100AK01A ,  4F100AK01C ,  4F100AK25 ,  4F100AK51 ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100DC21B ,  4F100EH46 ,  4F100EJ54 ,  4F100GB41 ,  4F100GB43 ,  4F100HB31 ,  4F100JB14C ,  4F100JG01B ,  4F100JK06 ,  4F100JK06C ,  4F100JN01C ,  4F100YY00C ,  5G307FA01 ,  5G307FA02 ,  5G307FB02 ,  5G307FC04 ,  5G307FC06
引用特許:
審査官引用 (6件)
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