レジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-133972
公開番号（公開出願番号）：特開2017-045038
出願日： 2016年07月06日
公開日（公表日）： 2017年03月02日
要約：

【課題】良好なラインエッジラフネス(LER)でレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】-SO2-基を有する構造単位、式(II)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂(A1)と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。[式(II)中、R2は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。L1は、単結合又は*-L2-CO-O-(L3-CO-O)g-を表す。*は、酸素原子との結合手を表す。L2、L3及びL4aは、互いに独立に、炭素数1〜12の2価の炭化水素基を表す。gは、0又は1を表す。nは、1〜3の整数を表す。R3は、炭素数1〜12の炭化水素基を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

-SO2-基を有する構造単位、式(II)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂(A1)と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 , G03F 7/039 , G03F 7/004 , C08F 220/28

FI (4件)：

G03F7/038 601 , G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , C08F220/28

Fターム (52件)：

2H225AF11P , 2H225AF16P , 2H225AF22P , 2H225AF53P , 2H225AF67P , 2H225AF71P , 2H225AF99P , 2H225AH02 , 2H225AH03 , 2H225AH04 , 2H225AH17 , 2H225AH19 , 2H225AH30 , 2H225AH36 , 2H225AJ12 , 2H225AJ13 , 2H225AJ53 , 2H225AJ54 , 2H225AJ55 , 2H225AJ59 , 2H225AM23P , 2H225AM27P , 2H225AN38P , 2H225AN39P , 2H225AN45P , 2H225AN54P , 2H225BA02P , 2H225BA26P , 2H225BA29P , 2H225CA12 , 2H225CB10 , 2H225CC01 , 2H225CC15 , 2H225CD05 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL08T , 4J100BA02T , 4J100BA03R , 4J100BA11S , 4J100BA15T , 4J100BC03Q , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC53S , 4J100BC84T , 4J100CA03 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (1件)

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-186607 出願人：富士写真フイルム株式会社

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