特許
J-GLOBAL ID:201703003044099206
光学異方性高分子膜、有機EL表示装置及び液晶表示装置の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (4件):
曾我 道治
, 梶並 順
, 大宅 一宏
, 飯野 智史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-089011
公開番号(公開出願番号):特開2017-198823
出願日: 2016年04月27日
公開日(公表日): 2017年11月02日
要約:
【課題】周囲雰囲気に影響されることなく空気中でも光重合反応を行うことができ、しかも未硬化及び白濁化が起こり難い光学異方性高分子膜の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の光学異方性高分子膜の製造方法は、メソゲン基を有する単官能性オキセタン化合物と、2官能性オキセタン化合物及び/又は界面活性剤とを含む光重合性組成物を基材に塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜に対して露光部を連続的に変化させながら光照射する工程とを含むことを特徴とする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
メソゲン基を有する単官能性オキセタン化合物と、2官能性オキセタン化合物及び/又は界面活性剤とを含む光重合性組成物を基材に塗布して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜に対して露光部を連続的に変化させながら光照射する工程と
を含むことを特徴とする光学異方性高分子膜の製造方法。
IPC (5件):
G02B 5/30
, H05B 33/10
, H01L 51/50
, H05B 33/02
, C08G 65/18
FI (5件):
G02B5/30
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/02
, C08G65/18
Fターム (23件):
2H149AA02
, 2H149AA18
, 2H149AB02
, 2H149DA02
, 2H149DA12
, 2H149DB06
, 2H149DB15
, 2H149FA24Y
, 2H149FA52Y
, 2H149FA58Y
, 2H149FD25
, 2H149FD48
, 3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC32
, 3K107CC45
, 3K107EE26
, 3K107FF14
, 3K107FF15
, 3K107FF17
, 3K107GG26
, 4J005AA07
, 4J005BB01
引用特許:
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