特許

J-GLOBAL ID：201703004109133381

レーザ及びプラズマを用いた付加製造

発明者： ラマスワミー, カルティーク ,  スブラマニ, アナンタ ケー. ,  クリシュナン, カシラマン ,  サン, ジェニファー ワイ. ,  ネマニ, シュリーニヴァース ディー. ,  ブレゾスキー, トーマス ビー. ,  ローランド, クリストファー エー. ,  ヤーフェルベルク, サイモン ,  スリニバサン, スワミナタン ,  パティバンドラ, ナーグ ビー. ,  イー, エリー ワイ. ,  ウン, ホウ ティー.
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 園田・小林特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-502834
公開番号（公開出願番号）：特表2017-526815
出願日： 2015年07月16日
公開日（公表日）： 2017年09月14日
要約：

付加製造システムは、プラテン、供給材料をプラテン上に送達するように構成された供給材料ディスペンサ装置、レーザビームを発生させるように構成されたレーザ、コンピュータ可読媒体に記憶されたデータによって特定される位置にレーザビームを案内して、供給材料を溶融させるように構成されたコントローラ、及び、プラテン上のレーザビームと実質的に同じ位置に案内されるイオンを発生させるように構成されたプラズマ源を含む。【選択図】図1A

請求項（抜粋）：

プラテン、 前記プラテン上に供給材料の層を送達するように構成された、供給材料ディスペンサ装置、 レーザビームを発生させるように構成された、レーザ、 コンピュータ可読媒体に記憶されたデータによって特定される位置において、前記供給材料を前記レーザビームに溶融させるように構成された、コントローラ、及び 前記プラテン上の、前記レーザビームと実質的に同じ位置に案内されるイオンを発生させるように構成された、プラズマ源 を含む、付加製造システム。

IPC (5件)：

B22F 3/16 ,  B33Y 30/00 ,  B33Y 10/00 ,  B33Y 50/02 ,  B22F 3/105

FI (5件)：

B22F3/16 ,  B33Y30/00 ,  B33Y10/00 ,  B33Y50/02 ,  B22F3/105

Fターム (5件)：

4K018AA19 ,  4K018AA21 ,  4K018CA44 ,  4K018EA51 ,  4K018EA60

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ライン状均一吐出装置、霧化装置、薄膜形成装置、パターン形成装置、三次元造形装置および洗浄装置。
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-263718   出願人：村野俊次
• ラスター走査方向が最適化された選択的レーザ焼結
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-223192   出願人：スリーディーシステムズインコーポレーテッド