特許
J-GLOBAL ID：201703004313394429
インプリント用モールド、インプリント用モールドの製造方法、パターンドメディア作製用基板の製造方法、および、パターンドメディアの製造方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
阿仁屋 節雄
, 油井 透
, 清野 仁
, 福岡 昌浩
, 奥山 知洋
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-122600
公開番号（公開出願番号）：特開2014-241321
特許番号：特許第6193633号
出願日： 2013年06月11日
公開日（公表日）： 2014年12月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 アルカリ金属を含むガラス基板と、
前記ガラス基板上に形成されるとともに、表面に凹凸パターンが設けられた、シリコンを含むパターニング膜と、を備え、
前記パターニング膜の表面が、少なくとも自然酸化したときよりも厚い酸化膜で覆われることにより、不活性化され、
前記不活性化されたパターニング膜の表面が、被転写基板の被転写膜と接触する面として形成されている
ことを特徴とするインプリント用モールド。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, B29C 33/38 ( 200 6.01)
, G11B 5/84 ( 200 6.01)
, G11B 5/65 ( 200 6.01)
, G11B 5/738 ( 200 6.01)
H01L 21/30 502 D
, B29C 33/38
, G11B 5/84 Z
, G11B 5/65
, G11B 5/738
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (10件)
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