成膜装置及びそれを用いた成膜方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大谷嘉一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-011537
公開番号（公開出願番号）：特開2017-133048
出願日： 2016年01月25日
公開日（公表日）： 2017年08月03日
要約：

【課題】低コストで各種目的に応じた成膜が可能な成膜装置及び方法の提供を目的とする。【解決手段】大気圧非熱平衡のプラズマ流発生装置と、前記プラズマ流発生装置にて発生したプラズマ流の流路途中に成膜原材料との接触供給部とを備え、前記接触供給部にて発生した成膜材料ガスとプラズマ流との混合ガス流を被成膜基材上に到達させることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

大気圧非熱平衡のプラズマ流発生装置と、前記プラズマ流発生装置にて発生したプラズマ流の流路途中に成膜原材料との接触供給部とを備え、前記接触供給部にて発生した成膜材料ガスとプラズマ流との混合ガス流を被成膜基材上に到達させることを特徴とする成膜装置。

IPC (3件)：

C23C 16/513 , H05H 1/26 , H01L 21/205

FI (3件)：

C23C16/513 , H05H1/26 , H01L21/205

Fターム (24件)：

2G084AA05 , 2G084BB37 , 2G084CC03 , 2G084CC14 , 2G084CC19 , 2G084CC34 , 2G084DD01 , 2G084FF02 , 2G084GG02 , 2G084GG08 , 2G084GG29 , 4K030AA02 , 4K030AA16 , 4K030BA35 , 4K030CA17 , 4K030EA01 , 4K030EA04 , 4K030FA01 , 4K030JA09 , 4K030KA30 , 5F045AA09 , 5F045AB31 , 5F045AB32 , 5F045DP03

引用特許：

出願人引用 (4件)

炭素膜、高分子製品、炭素膜被覆材の製造方法、成膜方法、及び、成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-095810 出願人：株式会社ミツバ, 国立大学法人群馬大学
プラズマ・ジェットによって物理的かつ化学的に活性の環境を形成する方法および関連するプラズマ・ジェット
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-549075 出願人：マサリコヴァユニヴェルツィタ
基板処理装置及び基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2013-266834 出願人：東京エレクトロン株式会社

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審査官引用 (4件)

炭素膜、高分子製品、炭素膜被覆材の製造方法、成膜方法、及び、成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-095810 出願人：株式会社ミツバ, 国立大学法人群馬大学
プラズマ・ジェットによって物理的かつ化学的に活性の環境を形成する方法および関連するプラズマ・ジェット
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-549075 出願人：マサリコヴァユニヴェルツィタ
基板処理装置及び基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2013-266834 出願人：東京エレクトロン株式会社

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