太陽電池の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：好宮幹夫 , 小林俊弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-260049
公開番号（公開出願番号）：特開2015-118979
特許番号：特許第6199727号
出願日： 2013年12月17日
公開日（公表日）： 2015年06月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】第一の導電型の半導体基板の第一主表面上の全面に、前記第一の導電型と反対の導電型の第二導電型層を形成する工程と、前記第一主表面上に、前記第一の導電型と同じ導電型の第一導電型層を形成する部分以外にマスクを形成する工程と、前記半導体基板上の第二主表面上及び前記第一主表面上の前記マスクが形成されていない部分に凹凸を形成する処理を行い、該処理により、前記マスクが形成されていない部分の前記第二導電型層の除去も行う工程と、前記凹凸が形成された部分の前記第一主表面上に、前記第一の導電型と同じ導電型の第一導電型層を形成する工程とをこの順序に従って順次行うことを特徴とする太陽電池の製造方法。

IPC (3件)：