特許
J-GLOBAL ID：201703005828085050

グラフェン膜の欠陥修復方法及びグラフェン膜の透過率測定装置

発明者：
沖川 侑揮

沖川 侑揮 について

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石原 正統

石原 正統 について

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大村 英樹

大村 英樹 について

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長谷川 雅考

長谷川 雅考 について


出願人/特許権者：
国立研究開発法人産業技術総合研究所

国立研究開発法人産業技術総合研究所 について


代理人 (1件)： 特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-122187
公開番号（公開出願番号）：特開2014-238377
特許番号：特許第6176711号
出願日： 2013年06月10日
公開日（公表日）： 2014年12月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】グラフェン膜の局所領域における透過率の測定と、ラマン分光測定とによりグラフェン膜の欠陥個所を検出し、 該欠陥個所にレーザーを照射して、前記グラフェン膜の欠陥個所を修復するグラフェン膜の欠陥修復方法であって、 前記局所領域の欠陥個所の修復は、前記透過率に基づいて前記グラフェン膜の層数のバラツキを算出し、且つ、 共鳴ラマン散乱測定を行い、前記共鳴ラマン散乱測定において得られるスペクトルで、1310cm-1以上1350cm-1以下の範囲内での最大のピーク強度をDとしたときに、Dバンドが現れる局所的な領域を前記グラフェン膜の欠陥個所として識別し、 前記グラフェン膜の欠陥個所として識別された個所にカーボンソースを与えながらレーザーを照射して、該欠陥に前記カーボンソースを充填して修復を行なうことを特徴とするグラフェン膜の欠陥修復方法。
IPC (5件)：
G01N 21/65 ( 200 6.01) ,  C01B 32/184 ( 201 7.01) ,  B82Y 40/00 ( 201 1.01) ,  B82Y 35/00 ( 201 1.01) ,  G01N 21/59 ( 200 6.01)
FI (5件)：
G01N 21/65 ,  C01B 32/184 ,  B82Y 40/00 ,  B82Y 35/00 ,  G01N 21/59 M
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

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