特許
J-GLOBAL ID：201703006124481526
装着位置ずれ原因究明方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人中部国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-548419
特許番号：特許第6145111号
出願日： 2012年11月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 回路基材への電子回路部品の装着位置ずれの原因を究明する方法であって、
吸着ノズルの軸方向に直角な方向の移動である横移動の実行時における吸着ノズルの吸着面に対する電子回路部品のずれである横移動時ずれが原因の少なくとも1つであるか否かを判定する第1判定工程と、
吸着ノズルの軸線まわりの回転時における吸着ノズルの吸着面に対する電子回路部品のずれである回転時ずれが原因の少なくとも1つであるか否かを判定する第2判定工程と、
回路基材の上面高さ位置に対する吸着ノズルの下降停止の相対位置が不適切である下降停止位置不適切が原因の少なくとも1つであるか否かを判定する第3判定工程と
の少なくとも1つを含み、
前記第1判定工程が、
電子回路部品を吸着した前記吸着ノズルが前記横移動を開始する前の状態を、吸着ノズルの軸方向に平行にその吸着ノズルの吸着面に向かう方向から撮像装置により撮像して取得する横移動前状態取得工程と、
前記吸着ノズルが予め定められた第1設定加速度で前記横移動を開始し、予め定められた設定速度に達した後、予め定められた第1設定減速度で横移動を停止する第1設定移動パターンでの横移動後における状態を、吸着ノズルの軸方向に平行にその吸着ノズルの吸着面に向かう方向から撮像装置により撮像して取得する横移動後状態取得工程と、
前記横移動前状態取得工程と前記横移動後状態取得工程との実施により得られた両撮像結果に基づいて、前記第1設定移動パターンに従う横移動の前後における電子回路部品の横ずれ量を取得し、取得した横ずれ量が予め定められた基準横ずれ量より大きければ、前記横移動時に発生した横ずれが装着位置ずれの原因の少なくとも1つであると判定する横移動前後状態依拠判定工程と
を含み、
前記横移動後状態取得工程が、前記第1設定移動パターンに従う横移動後に、前記吸着ノズルを横ずれが発生しないことが保証される第2設定移動パターンで前記吸着ノズルを前記横移動前状態取得工程のための撮像実行位置に戻し、同一の撮像装置により撮像を行う戻し後撮像の撮像結果に基づいて横移動後状態を取得する工程であることを特徴とする装着位置ずれ原因究明方法。
IPC (2件)：
H05K 13/08 ( 200 6.01)
, H05K 13/04 ( 200 6.01)
H05K 13/08 Q
, H05K 13/04 Z
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る
