特許
J-GLOBAL ID：201703007026677540
支持体上でのリビング重合体の製造方法、ブロック共重合体、それを用いたミクロ相分離構造膜およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-556388
特許番号：特許第6196635号
出願日： 2013年12月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 支持体上でモノマー含有組成物をリビング重合させる工程を含むことを特徴とする支持体上でのリビング重合体の製造方法であって、
前記リビング重合が原子移動ラジカル重合であり、かつ、
前記支持体が金属製の支持体であり、
前記支持体上で前記モノマー含有組成物をリビング重合させる工程が、1000秒以下であることを特徴とする支持体上でのリビング重合体の製造方法。
IPC (5件)：
C08F 2/00 ( 200 6.01)
, C08F 20/30 ( 200 6.01)
, C08F 2/38 ( 200 6.01)
, C08F 4/40 ( 200 6.01)
, C08F 293/00 ( 200 6.01)
C08F 2/00 C
, C08F 20/30
, C08F 2/38
, C08F 4/40
, C08F 293/00
