特許
J-GLOBAL ID:201703007029916260
溶液処理可能な酸化タングステン緩衝層及びこれを含む電子機器
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 高橋 正俊
, 出野 知
, 胡田 尚則
, 明石 尚久
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-557955
特許番号:特許第6204378号
出願日: 2013年02月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】 懸濁液の形態の組成物であって、前記組成物は、
(a)純粋な酸化タングステンナノ粒子、ドープされた酸化タングステンナノ粒子、及びシェルが酸化タングステン又はドープされた酸化タングステンで構成され、コアが異なる無機材料で構成されたコアシェルナノ粒子から成る群から選択される酸化タングステンナノ粒子と;
(b)水、及び水と二成分共沸混合物を形成する第一の有機溶媒を含む均一溶媒組成物と
を含んでおり、
前記溶媒組成物(b)中の水量は、前記第一の有機溶媒についての総共沸含水量未満であり;
前記懸濁液の形態の組成物中の水量は0.1〜20質量%の範囲内であり;
ナノ粒子の量:水量の比率が9未満:1(w/w)である、
組成物。
IPC (4件):
H01L 51/50 ( 200 6.01)
, H01L 51/46 ( 200 6.01)
, B82Y 30/00 ( 201 1.01)
, B82Y 40/00 ( 201 1.01)
FI (5件):
H05B 33/22 C
, H05B 33/14 A
, H01L 31/04 168
, B82Y 30/00
, B82Y 40/00
引用特許: