特許

J-GLOBAL ID：201703007194929792

人工弁形成基材及び人工弁

発明者： 中山 泰秀 ,  大家 智憲
出願人/特許権者： 国立研究開発法人国立循環器病研究センター
代理人 (4件)： 大島 泰甫 ,  稗苗 秀三 ,  小羽根 孝康 ,  藤原 清隆
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2015085460
公開番号（公開出願番号）：WO2016-098877
出願日： 2015年12月18日
公開日（公表日）： 2016年06月23日
要約：

本発明は、弁葉形成空間に結合組織を侵入させやすくして、弁葉の形成に要する時間を短くすることのできる人工弁形成基材、及び人工弁を提供するものである。具体的には、柱状の基材本体6を設ける。基材本体6の外周面に複数の凹部7を形成する。基材本体6にカバー基材9を装着する。カバー基材9で凹部7を覆って弁葉形成空間8を構成する。カバー基材9の端縁と凹部7の外縁との間に結合組織2の侵入口10を構成する。カバー基材9にスリット11を形成して弁葉形成空間8と基材外部とを連通させる。スリット11を基材中心軸15と平行かつカバー基材9の端縁に至る長さに形成する。人工弁形成基材1を生体組織材料の存在する環境に設置する。基材表面に結合組織2を形成する。カバー基材9を基材本体6から基材中心軸方向に抜き出す。基材から取り出した結合組織2を人工弁5とする。

請求項（抜粋）：

生体組織材料の存在する環境に設置して基材表面に結合組織を形成し、外管部から半径方向内向きに膨出する複数の弁葉を有する人工弁を形成するための人工弁形成基材であって、 柱状の基材本体と、該基材本体の外周面に形成された複数の凹部と、該凹部を覆って前記弁葉を形成する複数の弁葉形成空間を構成するカバー基材と、前記カバー基材の端縁と前記凹部の外縁との間に構成されて弁葉形成空間に結合組織を侵入させる侵入口と、を備え、 前記カバー基材に、弁葉形成空間と基材外部とを連通させるスリットが形成され、前記カバー基材が基材本体に対して基材中心軸方向に抜き出し可能に装着されると共に、前記スリットが基材中心軸と平行かつカバー基材の前記端縁に至る長さに形成されたことを特徴とする人工弁形成基材。

IPC (1件)：

A61F 2/06

FI (1件)：

A61F2/06

Fターム (5件)：

4C097AA15 ,  4C097BB01 ,  4C097CC01 ,  4C097CC03 ,  4C097DD01