特許
J-GLOBAL ID：201703007496222515
MEMSデバイス及びMEMSデバイスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
青木 篤
, 伊坪 公一
, 樋口 外治
, 小林 龍
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-102019
公開番号（公開出願番号）：特開2014-221503
特許番号：特許第6070404号
出願日： 2013年05月14日
公開日（公表日）： 2014年11月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 第1電極が配置される第1面を有し、ケイ酸ガラス又はセラミックスにより形成される第1基板と、
空洞と、
前記空洞の上に配置され、前記第1基板との間の距離を変化させるように運動可能な可動部と、
前記可動部上に配置され、前記第1電極と間隔をあけて対向する第2電極と、
を有し、シリコンにより形成される第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に配置されて、前記可動部に空間を形成するスペーサであって、前記可動部上ではない位置に配置されるスペーサと、
を備え、
前記第1基板と前記第2基板とは、前記第1基板が前記第1面を第2基板側に向けて、前記第1基板又は前記第2基板の内の少なくとも一方の基板が撓んだ状態で前記空間の周囲で陽極接合されるMEMSデバイス。
IPC (5件)：
B81B 3/00 ( 200 6.01)
, B81C 3/00 ( 200 6.01)
, H01H 57/00 ( 200 6.01)
, H01H 49/00 ( 200 6.01)
, H01H 59/00 ( 200 6.01)
B81B 3/00
, B81C 3/00
, H01H 57/00 C
, H01H 49/00 Z
, H01H 59/00
