特許
J-GLOBAL ID:201703007667184447

二重ワイパー構造を有するバラスト水紫外線処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 牛木 護 ,  高橋 知之 ,  守屋 嘉高 ,  田中 淳二 ,  矢野 卓哉 ,  加藤 裕介
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-528374
特許番号:特許第6058799号
出願日: 2012年09月05日
請求項(抜粋):
【請求項1】 バラスト水が流出入できる流入部と流出部を含むボディーと; 前記ボディーの内部を流れるバラスト水に紫外線を照射する紫外線ランプを含む紫外線ランプ部と; 前記紫外線ランプ部にくっ付いた異物を除去する洗浄部と;を含み、 前記洗浄部は、異物を除去するワイパーが挿入され、紫外線ランプを取り囲むワイパー本体と、前記ワイパー本体を駆動軸に連結するアームと、前記アームを移動させる駆動軸に動力を提供する駆動モーターとを含み、 前記ワイパーは、主ワイパーと補助ワイパーがそれぞれ前記ワイパー本体に挿入され、紫外線ランプ部にくっ付いた異物を二重に除去し、 前記主ワイパーは、前記ワイパー本体の内周面の中央部に位置し、ワイパー本体の内周面に挿入される紫外線ランプ部にくっ付いた異物を除去するとともに、 前記補助ワイパーは、前記主ワイパーの両側にそれぞれ位置し、前記アームの前進または後進移動の際に紫外線ランプ部の付着異物を前記主ワイパーにより拭き取られる前に一次的に補助ワイパーにかかるようにして除去することができるようにし、 前記補助ワイパーが、補助ワイパー本体から内周面の外側前方の方向に傾いて突出する傾斜突出部を含み、前記傾斜突出部は紫外線ランプ部の表面と接触する部分が面接触ではなく線接触をすることができるように先鋭部を形成し、紫外線ランプ部の表面と補助ワイパー間の摩擦を最小化し且つ効果的に異物を除去することができるようにすることを特徴とする、二重ワイパー構造を有するバラスト水紫外線処理装置。
IPC (2件):
C02F 1/32 ( 200 6.01) ,  B63B 13/00 ( 200 6.01)
FI (2件):
C02F 1/32 ,  B63B 13/00 Z
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • バラスト水処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2010-281604   出願人:パナソニック株式会社
  • 紫外線殺菌装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-211197   出願人:株式会社荏原製作所
  • 紫外線水処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2011-201929   出願人:株式会社東芝

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