特許
J-GLOBAL ID：201703007692081180

マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビームのブランキング装置

発明者：
松本 裕史

松本 裕史 について


出願人/特許権者：
株式会社ニューフレアテクノロジー

株式会社ニューフレアテクノロジー について


代理人 (3件)： 池上 徹真 ,  須藤 章 ,  松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-081880
公開番号（公開出願番号）：特開2017-191900
出願日： 2016年04月15日
公開日（公表日）： 2017年10月19日
要約：
【目的】マルチビーム描画のスループットの劣化を抑制しながら、クーロン効果を抑制可能な露光方法を提供する。【構成】本発明の一態様のマルチ荷電粒子ビーム露光方法は、荷電粒子線を用いたマルチビームのそれぞれ対応するビームが通過する複数の通過孔が形成された基板と、基板に配置され、マルチビームの各ビームを個別にブランキング偏向する複数の個別ブランキング機構とが搭載されたブランキング装置に、マルチビームの各ビームのON/OFF制御信号を一括転送する工程と、ブランキング装置に搭載された複数の個別ブランキング機構によってマルチビームが複数のグループにグループ化されたグループ毎に照射タイミングを切り替えながら、一括転送された各ビームのON/OFF制御信号に沿ってマルチビームを描画対象基板に照射する工程と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
荷電粒子線を用いたマルチビームのそれぞれ対応するビームが通過する複数の通過孔が形成された基板と、前記基板に配置され、前記マルチビームの各ビームを個別にブランキング偏向する複数の個別ブランキング機構とが搭載されたブランキング装置に、前記マルチビームの各ビームのON/OFF制御信号を一括転送する工程と、 前記ブランキング装置に搭載された前記複数の個別ブランキング機構によって前記マルチビームが複数のグループにグループ化されたグループ毎に照射タイミングを切り替えながら、一括転送された各ビームのON/OFF制御信号に沿って前記マルチビームを描画対象基板に照射する工程と、 を備えたことを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H01J 37/305
FI (3件)：
H01L21/30 541W ,  H01L21/30 541M ,  H01J37/305 B
Fターム (9件)：
5C034BB03 ,  5C034BB10 ,  5F056AA07 ,  5F056CB05 ,  5F056CC14 ,  5F056CD01 ,  5F056CD06 ,  5F056EA01 ,  5F056EA03
引用特許：
審査官引用 (3件)

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