光電変換層及び光電変換層の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-177515
公開番号（公開出願番号）：特開2017-054917
出願日： 2015年09月09日
公開日（公表日）： 2017年03月16日
要約：

【課題】複数のバンドギャップを有し、且つ、低コストで容易に製造可能であり、高い変換効率を示す光電変換層及び光電変換層の製造方法を提供する。【解決手段】Cu2O層と、CuO層またはCu2S層とが積層された、光電変換層。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

Cu2O層と、CuO層またはCu2S層とが積層された、光電変換層。

IPC (2件)：

H01L 31/072 , H01L 31/18

FI (2件)：

H01L31/06 400 , H01L31/04 420

Fターム (12件)：

5F151AA07 , 5F151BA11 , 5F151CB24 , 5F151DA03 , 5F151DA07 , 5F151FA02 , 5F151FA03 , 5F151FA04 , 5F151FA06 , 5F151FA13 , 5F151FA15 , 5F151GA03

引用特許：

審査官引用 (1件)

引用文献：

審査官引用 (5件)

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