特許
J-GLOBAL ID:201703008026777584

液体処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 奥田 誠司 ,  喜多 修市 ,  梶谷 美道 ,  岡部 英隆 ,  三宅 章子 ,  川喜田 徹
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-089405
公開番号(公開出願番号):特開2014-213211
特許番号:特許第6065321号
出願日: 2013年04月22日
公開日(公表日): 2014年11月17日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第1の面および第2の面を有する構造体であって、 前記第1の面と前記第2の面との間に配置され、水素イオンが移動するイオン移動層と、 前記第1の面と前記第2の面との間に配置され、前記第1の面で外部に露出した第1の部分と前記第2の面で外部に露出した第2の部分とを有し、少なくとも一部が前記イオン移動層の内部に位置し、かつ、前記第1の部分と前記第2の部分とを導通する導電体と を有する構造体と、 第1の被処理液を保持するための第1の処理槽と を備え、 前記構造体の前記第1の面は、前記第1の処理槽の内部に位置している液体処理装置。
IPC (4件):
C02F 3/34 ( 200 6.01) ,  C02F 3/10 ( 200 6.01) ,  B01J 23/42 ( 200 6.01) ,  H01M 8/16 ( 200 6.01)
FI (4件):
C02F 3/34 Z ,  C02F 3/10 Z ,  B01J 23/42 M ,  H01M 8/16
引用特許:
審査官引用 (4件)
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