レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-087782
公開番号（公開出願番号）：特開2016-212403
出願日： 2016年04月26日
公開日（公表日）： 2016年12月15日
要約：

【課題】良好なラインエッジラフネスでレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される化合物、酸不安定基を有する樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。[式中、L1はフッ素化アルカンジイル基:X1及びX2は其々*-CO-O-、*-O-CO-、*-O-CO-O-又は*-O-を有する基、*はL1との結合位:R1〜R6は其々H原子、ヒドロキシ基又は炭化水素基を表し、あるいは、R1〜R3又はR4〜R6のうち2以上が一緒になって脂環式炭化水素基を形成してもよく、これら基に含まれるメチレン基は、O、CO、2つのOを含むヘテロ環等に置き換わっていてもよく、これら基に含まれるH原子は、ヒドロキシ基又はF原子に置換されてもよく、ヘテロ環に含まれるH原子はF原子に置換されていてもよい。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される化合物、酸不安定基を有する樹脂及び酸発生剤を含有するレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , G03F 7/038 , G03F 7/20 , C08F 20/10

FI (5件)：

G03F7/004 501 , G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , G03F7/20 521 , C08F20/10

Fターム (69件)：

2H197AA06 , 2H197AA12 , 2H197CA03 , 2H197CA08 , 2H197CE01 , 2H197CE10 , 2H197HA03 , 2H197JA12 , 2H197JA13 , 2H197JA14 , 2H197JA22 , 2H225AF11P , 2H225AF16P , 2H225AF22P , 2H225AF24P , 2H225AF25P , 2H225AF53P , 2H225AF67P , 2H225AF71P , 2H225AF99P , 2H225AH17 , 2H225AH19 , 2H225AJ13 , 2H225AJ64 , 2H225AJ65 , 2H225AJ68 , 2H225AJ69 , 2H225AL02 , 2H225AL03 , 2H225AL22 , 2H225AM22P , 2H225AM23P , 2H225AM27P , 2H225AM99P , 2H225AN11P , 2H225AN30P , 2H225AN38P , 2H225AN39P , 2H225AN45P , 2H225AN50P , 2H225AN54P , 2H225AN56P , 2H225AN65P , 2H225AN67P , 2H225BA02P , 2H225BA26P , 2H225BA29P , 2H225CA12 , 2H225CB10 , 2H225CC01 , 2H225CC15 , 2H225CD05 , 4J100AL03P , 4J100AL04P , 4J100AL08P , 4J100BA03P , 4J100BA23P , 4J100BB18P , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC08P , 4J100BC09P , 4J100BC53P , 4J100CA03 , 4J100DA01 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100GB01 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (1件)

化合物及びその製造方法並びに該化合物を含むレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-200487 出願人：住友化学株式会社

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