特許

J-GLOBAL ID：201703008730189949

深紫外線化学増幅型ポジ型フォトレジスト

発明者： リュー ルー ,  シェ チァンシェ ,  フイ グアンパオ
出願人/特許権者： 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司
代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  蛯谷 厚志 ,  小林 良博 ,  吉井 一男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-227035
公開番号（公開出願番号）：特開2014-092792
特許番号：特許第6169478号
出願日： 2013年10月31日
公開日（公表日）： 2014年05月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 シクロペンテニルピマール酸、ジビニルエーテル、光酸発生剤、及び有機溶剤を含むポジ型フォトレジストであって;前記シクロペンテニルピマール酸の構造式が、以下の通りである、ポジ型フォトレジスト。

IPC (4件)：

G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  C08F 232/08 ( 200 6.01) ,  C07C 61/29 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  C08F 232/08 ,  C07C 61/29 CSP

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ポジ型感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-104901   出願人：太陽インキ製造株式会社, 日本油脂株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-056924   出願人：富士写真フイルム株式会社
• アビエチン酸多官能ビニル(チオ)エーテル誘導体を含有するロジン誘導体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-079561   出願人：日本油脂株式会社
• 特許第2728408号
  
• 特許第9023590号