特許
J-GLOBAL ID：201703008933996912

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
宗徳 皓太

宗徳 皓太 について

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田中 孝佳

田中 孝佳 について

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佐藤 雅伸

佐藤 雅伸 について


出願人/特許権者：
株式会社SCREENホールディングス

株式会社SCREENホールディングス について


代理人 (3件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫 ,  五郎丸 正巳
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-054247
公開番号（公開出願番号）：特開2014-179567
特許番号：特許第6112509号
出願日： 2013年03月15日
公開日（公表日）： 2014年09月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を水平に保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段によって保持された基板を、鉛直な回転軸線まわりに回転させる回転手段と、 前記基板保持手段によって保持された基板の上面内の噴射領域に吹き付けられる処理液の液滴を生成する液滴ノズルと、 前記基板の上面に保護液を吐出するための第1の保護液ノズルと、 前記基板の上面に保護液を吐出するための第2の保護液ノズルと、 前記第1および第2の保護液ノズルに対し、保護液を供給するための保護液供給手段と、 前記液滴ノズルならびに前記第1および第2の保護液ノズルを移動させるためのノズル移動手段と、 前記保護液供給手段を制御して、前記第1および第2の保護液ノズルの双方から前記基板の上面に保護液を吐出させ、前記基板の上面に保護液の液膜を形成して、前記保護液の液膜によって前記噴射領域が覆われている状態で、処理液の液滴を前記噴射領域に衝突させる保護液吐出制御手段と、 前記第1および第2の保護液ノズルからの保護液の吐出に並行して、前記液滴ノズルと前記第1および第2の保護液ノズルとの位置関係を一定に保ちながら、前記基板の上面中心部と前記基板の上面周縁部との間で前記噴射領域が移動するように、前記液滴ノズルならびに前記第1および第2の保護液ノズルを移動させるノズル移動制御手段とを含み、 前記第1の保護液ノズルの前記液滴ノズルに対する位置および姿勢は、前記基板の上面において当該保護液ノズルからの保護液が着液する、前記液滴ノズルに対する相対的な着液位置、および当該保護液ノズルから吐出された保護液が前記着液位置に入射するときの、前記液滴ノズルに対する相対的な入射角度の少なくとも一方を含む着液状態が第1の着液状態となるような第1の位置および姿勢に設定されており、 前記第2の保護液ノズルの前記液滴ノズルに対する位置および姿勢は、前記着液位置および前記入射角度の少なくとも一方を含む前記着液状態が、前記第1の着液状態と異なる第2の着液状態となるような第2の位置および姿勢に設定されている、基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  B08B 3/02 ( 200 6.01)
FI (4件)：
H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 648 G ,  B08B 3/02 B
引用特許：
審査官引用 (4件)
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