特許
J-GLOBAL ID:201703009090088993

環状シロキサン化合物、環状シロキサン膜、ナノ構造体の製造方法およびSiO2超薄膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 須田 篤 ,  楠 修二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-093357
公開番号(公開出願番号):特開2017-200892
出願日: 2016年05月06日
公開日(公表日): 2017年11月09日
要約:
【課題】CVDを利用しなくとも成膜可能で、常温常圧で粉末状の性状を有し、有機溶媒に可溶であり、かつ塗布法などで簡便にコーティング可能で、ナノメートルスケールで構造制御が可能である環状シロキサン化合物、環状シロキサン膜、ナノ構造体の製造方法およびSiO2超薄膜を提供する。【解決手段】図1で表される環状シロキサン化合物は、Si-H基を有する環状シロキサンを、コハク酸無水物とのヒドロシリル化反応により置換し、さらにN-ドデシルアミンと反応させることで得ることができ、粉末状である環状シロキサン化合物。【選択図】図1
請求項(抜粋):
式(1)であらわされることを特徴とする環状シロキサン化合物。
IPC (1件):
C07F 7/10
FI (1件):
C07F7/10 W
Fターム (11件):
4H049VN01 ,  4H049VP04 ,  4H049VQ37 ,  4H049VR22 ,  4H049VR42 ,  4H049VU17 ,  4H049VU24 ,  4H049VW02 ,  5F058AC03 ,  5F058AD05 ,  5F058AF04

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