特許
J-GLOBAL ID：201703009090088993
環状シロキサン化合物、環状シロキサン膜、ナノ構造体の製造方法およびSiO2超薄膜
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
須田 篤
, 楠 修二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-093357
公開番号（公開出願番号）：特開2017-200892
出願日： 2016年05月06日
公開日（公表日）： 2017年11月09日
要約：
【課題】CVDを利用しなくとも成膜可能で、常温常圧で粉末状の性状を有し、有機溶媒に可溶であり、かつ塗布法などで簡便にコーティング可能で、ナノメートルスケールで構造制御が可能である環状シロキサン化合物、環状シロキサン膜、ナノ構造体の製造方法およびSiO2超薄膜を提供する。【解決手段】図1で表される環状シロキサン化合物は、Si-H基を有する環状シロキサンを、コハク酸無水物とのヒドロシリル化反応により置換し、さらにN-ドデシルアミンと反応させることで得ることができ、粉末状である環状シロキサン化合物。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
式(1)であらわされることを特徴とする環状シロキサン化合物。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (11件)：
4H049VN01
, 4H049VP04
, 4H049VQ37
, 4H049VR22
, 4H049VR42
, 4H049VU17
, 4H049VU24
, 4H049VW02
, 5F058AC03
, 5F058AD05
, 5F058AF04
