特許
J-GLOBAL ID：201703010340925398
硫黄含有酸化グラフェン又は硫黄含有グラフェン及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
鍬田 充生
, 阪中 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-008543
公開番号（公開出願番号）：特開2017-128472
出願日： 2016年01月20日
公開日（公表日）： 2017年07月27日
要約：
【課題】硫黄原子が化学結合してドープされ、かつ導電性も高い硫黄含有酸化グラフェン又は硫黄含有グラフェンを提供することにある。【解決手段】酸化グラフェン及び硫黄含有化合物を含むスラリーを液中プラズマ処理することにより、酸化グラフェンに硫黄原子が化学結合してドープされ、かつ導電性も高い硫黄含有グラフェンを調製する。さらに、硫黄原子がドープした酸化グラフェンをさらに還元し、酸化グラフェン又はグラフェンに硫黄原子が化学結合してドープされ、かつ導電性も高い硫黄含有部分酸化グラフェン又は硫黄含有グラフェンを調製してもよい。これらの硫黄含有(部分)酸化グラフェン又は硫黄含有グラフェンにおいて、硫黄原子の原子割合は、酸化グラフェン又はグラフェンを構成する炭素原子に対して1〜30%程度である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸化グラフェンに硫黄原子がドープした硫黄含有酸化グラフェンであって、前記硫黄原子が、前記酸化グラフェンを構成する炭素原子と化学結合している硫黄含有酸化グラフェン。
IPC (3件)：
C01B 32/15
, C01B 32/18
, C01B 32/182
4G146AA01
, 4G146AA15
, 4G146AB07
, 4G146AC20A
, 4G146AC20B
, 4G146AC27A
, 4G146AC27B
, 4G146CB13
, 4G146CB16
, 4G146CB26
, 4G146CB35
