特許
J-GLOBAL ID:201703010824800603

ネイルアートの施術方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 鎌田 直也 ,  鎌田 文二 ,  中谷 弥一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-110190
公開番号(公開出願番号):特開2017-213267
出願日: 2016年06月01日
公開日(公表日): 2017年12月07日
要約:
【課題】インクジェットプリント装置を用いて爪にプリントしたネイルアートがぼやけたりにじんだりせず鮮明に表現されかつ耐久性を有するようにすることである。【解決手段】 疎水性を有し、ネイルアートデザイン層の担持層となる第2のベース層2が爪Nに密着し易くかつリムーバ液で剥離し易くするために第1のベース層1を爪Nの表面全面に塗布し、次いで第2のベース層2を塗布して紫外線で硬化する。そして水溶性インクから成るアートデザイン層4の密着性を良好にするためのプライマーとなる接合層3を第2のベース層2に塗工した後、インクジェットプリント装置でアートデザイン層4をプリントし、その上にオーバコート層5を塗布する。【選択図】図5
請求項(抜粋):
リムーバ溶液に対して溶解性を有し疎水性光硬化型樹脂に対して密着性の良い樹脂から成る第1のベース層を爪表面に形成する第1の工程と、疎水性光硬化型樹脂から成る第2のベース層を前記第1のベース層の表面に塗布し、光照射によって硬化させる第2の工程と、光硬化型樹脂と水溶性インクとの双方に対して密着性の良好な樹脂、または樹脂とバインダとの混合物を含む接合層を第2のベース層の表面に塗布し硬化させる第3の工程と、この接合層の表面に、インクジェットプリント装置を用いて水溶性インクでアートデザイン層を形成する第4の工程と、このアートデザイン層の表面に疎水性樹脂から成るオーバコート層を形成する第5の工程と、から成るネイルアートの施術方法。
IPC (1件):
A45D 29/18
FI (1件):
A45D29/18
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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