特許
J-GLOBAL ID：201703010900887314

パラジウム金合金ガス分離膜システムを調製する方法

発明者：
パーキンス・ザ・セカンド,ネイサン・アール

パーキンス・ザ・セカンド,ネイサン・アール について

, 
ソウカイティス,ジョン・チャールズ

ソウカイティス,ジョン・チャールズ について


出願人/特許権者：
シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー

シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー について


代理人 (1件)： 特許業務法人川口國際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-538895
特許番号：特許第6122024号
出願日： 2012年10月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 金パラジウム合金ガス分離膜を調製する方法であって、 0.8ミクロン未満の平均表面粗さ(Sa)を有するパラジウム層を準備するステップと、 前記パラジウム層を研削媒体で研削して、0.8ミクロンを超える平均表面粗さ(Sa)に表面粗さを増加させるステップと、 パラジウムの前記層に金の層を堆積するのに十分な時間、前記研削したパラジウム表面を、塩化金酸またはこの塩および過酸化水素を含む溶液と接触させるステップと、 前記パラジウムおよび金の層をアニールして前記パラジウム金合金ガス分離膜を生成するステップとを含む方法。
IPC (8件)：
B01D 71/02 ( 200 6.01) ,  B01D 69/10 ( 200 6.01) ,  B01D 69/12 ( 200 6.01) ,  C23C 18/16 ( 200 6.01) ,  C23C 18/18 ( 200 6.01) ,  C23C 18/44 ( 200 6.01) ,  B32B 15/01 ( 200 6.01) ,  B01D 53/22 ( 200 6.01)
FI (8件)：
B01D 71/02 500 ,  B01D 69/10 ,  B01D 69/12 ,  C23C 18/16 Z ,  C23C 18/18 ,  C23C 18/44 ,  B32B 15/01 E ,  B01D 53/22
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM