特許
J-GLOBAL ID：201703010932784592
表面トポロジーのエネルギー移送補償を有する超合金のレーザークラッディング
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-531930
特許番号：特許第6058803号
出願日： 2013年08月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基材から連続する層それぞれを通じてエピタキシャル結晶粒成長を維持しつつ、超合金製部品をクラッドする方法であって、
フィラー材料を部品の超合金製基材の表面に導入するステップと、
レーザービームを前記フィラー材料及び前記基材上に集束するステップと、
前記フィラー材料を最初のフィラー層として、前記基材を過熱することなく、前記基材に融合させる光エネルギーを、前記レーザービームから前記フィラー材料及び前記基材に移送するステップと、
前記レーザービームと前記基材とを、部品の表面のトポロジーに基づいて光エネルギーの移送量を変化させつつ、互いに対してラスタースキャンさせるステップであって、それによって前記レーザービームが前記基材上に平行線状のパターンを描く、ステップと、
前記導入するステップ、前記集束するステップ、前記移送するステップ、及び前記ラスタースキャンするステップを繰り返すステップであって、それによって1つ以上のさらなるフィラー層を前記最初のフィラー層の上にクラッドするステップと、
を備え、
前記最初のフィラー層及び前記さらなるフィラー層のそれぞれが、隣接する複数の直線状の溶接部から成る二次元の溶接部の配列を備え、
それぞれの前記二次元の配列の直線状の溶接部は連続して形成され、前記ラスタースキャンの方向は、1つの前記直線状の溶接部から次の前記直線状の溶接部へ方向が反転されており、
前記直線状の溶接部のそれぞれは、並進方向に対して垂直なオシレーション方向における前記基材に対する前記レーザービームのオシレーションによって形成され、
クラッド層は、連続的に並べられる方向又は左から右への並進方向に対して90°の方向への並進方向において連続的に交互に形成された層によって、互いに適用されている、超合金製部品をクラッドする方法。
IPC (3件)：
B23K 26/342 ( 201 4.01)
, B23K 26/082 ( 201 4.01)
, B23K 26/00 ( 201 4.01)
B23K 26/342
, B23K 26/082
, B23K 26/00 M
, B23K 26/00 N
