特許
J-GLOBAL ID：201703011164393933
光偏向器の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人創成国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-253818
公開番号（公開出願番号）：特開2014-102361
特許番号：特許第6092590号
出願日： 2012年11月20日
公開日（公表日）： 2014年06月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 表側にミラー面を有するミラー部と、該ミラー部を収容する表側空間部分と該ミラー部の変位を許容する裏側空間部分とを画成する支持体とを備える光偏向器の製造方法であって、
表側から裏側へ順番にSOI層、BOX層及びハンドル層を有するウェハに対し、その表側からのSOI層のエッチングにより、ウェハの各区画の表側に前記表側空間部分と前記ミラー部の表側部分とを形成する第1工程と、
第1工程後のウェハに対し、その表側に、所定の溶液に対して可溶性である液状被覆剤を塗布して被覆剤層を形成し、該被覆剤層の表側を覆う支持基板を当てる第2工程と、
第2工程後のウェハに対し、前記被覆剤層を介して前記支持基板を固着するとともに前記被覆剤層を固化する第3工程と、
第3工程後のウェハに対し、その裏側からのハンドル層及びBOX層のエッチングにより、ウェハの各区画の裏側に前記裏側空間部分と前記ミラー部の裏側部分とを形成する第4工程と、
第4工程後のウェハに対し、その支持基板の表側に表側テープを貼着してから、該ウェハの裏側からウェハの各区画線に沿ってダイシングを行う第5工程と、
第5工程後のウェハに対し、その裏側に、粘着力が紫外線照射により低下する裏側テープを貼着する第6工程と、
第6工程後のウェハに対し、前記裏側空間部分の周輪郭よりも周輪郭が小さい開口を有するステンシルマスクを、該開口が前記裏側空間部分の内側になるように、前記裏側テープの裏側に当てる第7工程と、
第7工程後のウェハに対し、裏側から紫外線を照射してから前記ステンシルマスクを分離する第8工程と、
第8工程後のウェハに対し、該ウェハを前記所定の溶液に浸漬して前記被覆剤層及び前記支持基板を除去する第9工程とを備えることを特徴とする光偏向器の製造方法。
IPC (4件)：
G02B 26/10 ( 200 6.01)
, G02B 26/08 ( 200 6.01)
, B81C 1/00 ( 200 6.01)
, H04N 1/113 ( 200 6.01)
G02B 26/10 104 Z
, G02B 26/08 E
, B81C 1/00
, H04N 1/04 104 Z
