特許
J-GLOBAL ID：201703011368118591

リンを含有するCHA型ゼオライトおよびその製造方法

発明者：
佐野 庸治

佐野 庸治 について

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定金 正洋

定金 正洋 について

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津野地 直

津野地 直 について

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高光 泰之

高光 泰之 について


出願人/特許権者：
国立大学法人広島大学

国立大学法人広島大学 について

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東ソー株式会社

東ソー株式会社 について


代理人 (1件)： 白井 重隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-169004
公開番号（公開出願番号）：特開2017-048106
出願日： 2016年08月31日
公開日（公表日）： 2017年03月09日
要約：
【課題】従来のCHA型ゼオライトと比較して、より耐熱性が高いCHA型ゼオライトを提供する。【解決手段】リンを含み、SiO2/Al2O3比が16以上50以下であることCHA型ゼオライト。このようなCHA型ゼオライトは、シリカ源、アルミナ源、ホスホニウムカチオン源及びアンモニウムカチオン源を含む組成物を結晶化する結晶化工程、を有する製造方法により得ることが好ましい。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
リンを含み、SiO2/Al2O3比が16以上50以下であることを特徴とするCHA型ゼオライト。
IPC (2件)：
C01B 39/48 ,  B01J 29/76
FI (2件)：
C01B39/48 ,  B01J29/76 A
Fターム (38件)：
4G073BA36 ,  4G073BA48 ,  4G073BA70 ,  4G073BA81 ,  4G073BA82 ,  4G073BA83 ,  4G073BB03 ,  4G073BB04 ,  4G073BB48 ,  4G073BB63 ,  4G073BB70 ,  4G073BD01 ,  4G073CZ03 ,  4G073CZ17 ,  4G073CZ41 ,  4G073FB28 ,  4G073FB30 ,  4G073FC19 ,  4G073GA01 ,  4G073GA03 ,  4G073GA11 ,  4G073GB02 ,  4G073UA01 ,  4G073UA05 ,  4G169AA03 ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC31A ,  4G169BC31B ,  4G169BC66A ,  4G169CA08 ,  4G169CA13 ,  4G169ZA14A ,  4G169ZA14B ,  4G169ZA32A ,  4G169ZA32B
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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