特許
J-GLOBAL ID:201703011649731209
表示装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-171401
公開番号(公開出願番号):特開2016-218477
出願日: 2016年09月02日
公開日(公表日): 2016年12月22日
要約:
【課題】薄く、軽量であり且つ破壊が生じにくい液晶表示装置を、作製工程を大幅に削減して低コストで作製する方法を提供する。【解決手段】剥離層を介して基板上に素子領域を形成する際に、半導体層のエッチングと、画素電極とドレイン電極を接続するためのコンタクトホールの形成を、同一のフォトリソグラフィ工程及びエッチング工程で行う。更に素子領域を基板から剥離してじん性の高い第1の支持体に移し替え、第1の支持体及びじん性の高い第2の支持体で液晶素子を挟持することで、薄く、軽量であり且つ破壊が生じにくい液晶表示装置を、作製工程を大幅に削減して低コストで作製できる。【選択図】図8
請求項(抜粋):
トランジスタと、接続部と、を有する表示装置であって、
前記トランジスタは、
ゲート電極と、
前記ゲート電極上方のゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上方の第1の酸化物半導体層と、
前記第1の酸化物半導体層上方の第1の層と、
前記第1の層上方に設けられ、前記第1の酸化物半導体層と電気的に接続された第1の導電層と、
を有し、
前記接続部は、
第2の導電層と、
前記第2の導電層上方の前記ゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上方の第2の酸化物半導体層と、
前記第2の酸化物半導体層上方の第2の層と、
前記ゲート絶縁層、前記第2の酸化物半導体層及び前記第2の層に設けられた開口部と、
前記開口部内に設けられ、前記第2の導電層と電気的に接続された第3の導電層と、
を有し、
前記第3の導電層は、前記第2の酸化物半導体層の側面と接することを特徴とする表示装置。
IPC (3件):
G09F 9/30
, G02F 1/136
, H01L 29/786
FI (3件):
G09F9/30 338
, G02F1/1368
, H01L29/78 618B
Fターム (87件):
2H192AA24
, 2H192BC31
, 2H192CB05
, 2H192CB45
, 2H192DA12
, 2H192DA42
, 2H192FA65
, 2H192HA22
, 5C094AA15
, 5C094AA36
, 5C094AA44
, 5C094BA43
, 5C094CA19
, 5C094DA13
, 5C094DB04
, 5C094FA01
, 5C094FA02
, 5C094FB12
, 5C094FB14
, 5C094FB15
, 5C094HA08
, 5C094HA10
, 5F110AA01
, 5F110AA02
, 5F110AA06
, 5F110AA07
, 5F110BB01
, 5F110CC07
, 5F110DD01
, 5F110DD12
, 5F110DD13
, 5F110DD14
, 5F110DD15
, 5F110DD17
, 5F110EE01
, 5F110EE02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE06
, 5F110EE07
, 5F110EE14
, 5F110EE42
, 5F110EE43
, 5F110EE44
, 5F110FF01
, 5F110FF02
, 5F110FF03
, 5F110FF04
, 5F110FF09
, 5F110FF28
, 5F110FF30
, 5F110GG01
, 5F110GG02
, 5F110GG03
, 5F110GG04
, 5F110GG06
, 5F110GG12
, 5F110GG13
, 5F110GG14
, 5F110GG15
, 5F110GG17
, 5F110GG19
, 5F110GG22
, 5F110GG25
, 5F110GG33
, 5F110GG34
, 5F110GG43
, 5F110GG57
, 5F110GG58
, 5F110HK01
, 5F110HK02
, 5F110HK03
, 5F110HK04
, 5F110HK06
, 5F110HK07
, 5F110HK21
, 5F110NN03
, 5F110NN22
, 5F110NN23
, 5F110NN34
, 5F110NN40
, 5F110NN73
, 5F110PP10
, 5F110PP13
, 5F110PP36
, 5F110QQ06
, 5F110QQ16
引用特許: