特許

J-GLOBAL ID：201703012041390170

荷電粒子ビーム描画装置

発明者： 川口 通広 ,  明野 公信 ,  香川 譲徳 ,  浅見 悠 ,  山口 圭介
出願人/特許権者： 株式会社ニューフレアテクノロジー
代理人 (1件)： 特許業務法人 天城国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-093686
公開番号（公開出願番号）：特開2014-216528
特許番号：特許第6151080号
出願日： 2013年04月26日
公開日（公表日）： 2014年11月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 試料を外部より導入するために設けられ、大気状態と真空状態とを切り替えることが可能なロードロックチャンバと、 このロードロックチャンバと連通可能であり、前記試料の搬送を行う搬送チャンバと、 前記搬送チャンバと連通可能であり、前記試料を収納し輻射により前記試料の温度を制御する温調用容器と、前記温調用容器の温度を制御するための温調部と、を有する恒温化チャンバと、 前記搬送チャンバと連通可能であり、恒温化された前記試料に対して描画を行う描画チャンバと、 を備え、 前記温調用容器は、前記試料の上面と前記温調用容器の上部内壁からの距離と、前記試料の下面と前記温調用容器の下部内壁からの距離とが、実質的に等しくなるように前記試料を配置するための支持体を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  H01J 37/305 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 L ,  H01L 21/30 541 P ,  H01L 21/30 502 H ,  H01J 37/305 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 荷電ビーム描画方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-096690   出願人：株式会社東芝
• 荷電ビーム描画装置および荷電ビーム描画方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-033268   出願人：株式会社東芝
• 電子線露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-287260   出願人：株式会社東京精密
• 被処理体載置テーブルおよびそれを備えた処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-314594   出願人：株式会社ニコン