特許
J-GLOBAL ID：201703012113672257

枚葉式ウェーハ洗浄処理装置及びウェーハ洗浄処理方法

発明者：
五十嵐 健作

五十嵐 健作 について

, 
阿部 達夫

阿部 達夫 について


出願人/特許権者：
信越半導体株式会社

信越半導体株式会社 について


代理人 (2件)： 好宮 幹夫 ,  小林 俊弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-022872
公開番号（公開出願番号）：特開2017-143141
出願日： 2016年02月09日
公開日（公表日）： 2017年08月17日
要約：
【課題】枚葉式のウェーハ洗浄処理装置を用いてウェーハの洗浄を行う場合に、乱流の影響により発生する、薬液のミスト等によるウェーハ表面の欠陥を抑制することができる枚葉式ウェーハ洗浄処理装置を提供する。【解決手段】チャンバー内に配置されたカップ部と、該カップ部内に配置され、ウェーハを保持し回転するテーブル部と、ウェーハに薬液を供給するノズル部とを具備する枚葉式のウェーハ洗浄処理装置であって、チャンバーに設けられた給気部と、給気部の風量を調整する給気風量可変機構と、チャンバーに設けられた排気部と、排気部の風量を調整する排気風量可変機構と、テーブル部に保持されるウェーハの端部の位置の風速を測定する風速計とを備えるものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
チャンバー内に配置されたカップ部と、該カップ部内に配置され、ウェーハを保持し回転するテーブル部と、前記ウェーハに薬液を供給するノズル部とを具備する枚葉式のウェーハ洗浄処理装置であって、 前記チャンバーに設けられた給気部と、 該給気部の風量を調整する給気風量可変機構と、 前記チャンバーに設けられた排気部と、 該排気部の風量を調整する排気風量可変機構と、 前記テーブル部に保持されるウェーハの端部の位置の風速を測定する風速計とを備えるものであることを特徴とする枚葉式ウェーハ洗浄処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ,  H01L 21/683
FI (3件)：
H01L21/304 648L ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/68 N
Fターム (33件)：
5F131AA02 ,  5F131BA37 ,  5F131BB12 ,  5F131EA06 ,  5F131EA24 ,  5F131EB32 ,  5F131EB55 ,  5F131EB57 ,  5F131JA27 ,  5F131JA32 ,  5F131JA34 ,  5F131KA22 ,  5F131KA40 ,  5F157AA91 ,  5F157AB02 ,  5F157AB33 ,  5F157AB42 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC02 ,  5F157BB22 ,  5F157CC11 ,  5F157CE76 ,  5F157CE77 ,  5F157CF18 ,  5F157CF20 ,  5F157CF42 ,  5F157DA21 ,  5F157DB02 ,  5F157DB18 ,  5F157DB37 ,  5F157DB51 ,  5F157DC90
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-225087   出願人：松下電器産業株式会社
  • 基板の処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-266892   出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
  • 半導体ウエハ用洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-263302   出願人：株式会社スーパーシリコン研究所

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