特許

J-GLOBAL ID：201703012139029360

画像処理装置、撮像装置、制御方法及びプログラム

発明者： 北島 光太郎
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  大塚 康弘 ,  高柳 司郎 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-027243
公開番号（公開出願番号）：特開2017-147568
出願日： 2016年02月16日
公開日（公表日）： 2017年08月24日
要約：

【課題】撮像後に逆光特有の表現を好適に実現した画像を生成する。【解決手段】画像に含まれる被写体について、該画像の撮像時に存在しなかった仮想光源を逆光の関係となる位置に定義した場合に、被写体領域の形状に基づいて、仮想光源による透過光の発生率を決定する。また仮想光源を定義する位置と被写体領域との位置に基づいて、仮想光源による反射光の発生率を決定する。そして、該透過光の発生率と反射光の発生率とに基づいて、仮想光源による影響を演算し、仮想光源による影響を付加した画像を出力する。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

撮像により得られた画像を取得する取得手段と、 前記取得手段により取得された画像に含まれる被写体について、撮像時に存在しなかった仮想光源による影響を演算する演算手段と、 前記演算手段による演算結果に基づき、前記被写体に前記仮想光源による影響を付加した画像を出力する出力手段とを有し、 前記演算手段は、 前記仮想光源を定義する位置を決定する決定手段と、 前記取得された画像に含まれる被写体領域を特定する特定手段と、 前記決定手段により逆光の関係となる位置に前記仮想光源を定義する位置が決定される場合に、 前記特定手段により特定された被写体領域の形状に基づいて、前記仮想光源による透過光の発生率を決定する第1の決定手段と、 前記仮想光源を定義する位置と前記被写体領域との位置に基づいて、前記仮想光源による反射光の発生率を決定する第2の決定手段と、 前記第1の決定手段により決定された前記透過光の発生率と前記第2の決定手段により決定された前記反射光の発生率とに基づいて、前記仮想光源による影響を演算する処理手段と、 を含むことを特徴とする画像処理装置。

IPC (3件)：

H04N 5/232 ,  G06T 11/80 ,  G03B 15/00

FI (4件)：

H04N5/232 Z ,  G06T11/80 A ,  G03B15/00 G ,  G03B15/00 Q

Fターム (16件)：

5B050BA06 ,  5B050BA12 ,  5B050BA15 ,  5B050DA04 ,  5B050EA06 ,  5B050EA30 ,  5B050FA02 ,  5C122DA04 ,  5C122EA61 ,  5C122FH02 ,  5C122FH03 ,  5C122FH09 ,  5C122FH11 ,  5C122FH22 ,  5C122FH23 ,  5C122HA88

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 撮像装置及び撮像方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-245382   出願人：オリンパスイメージング株式会社