特許

J-GLOBAL ID：201703012651672135

加熱用照射装置

発明者： 瀧川 道生 ,  森 一富 ,  弥政 和宏 ,  稲沢 良夫
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (6件)： 曾我 道治 ,  梶並 順 ,  大宅 一宏 ,  上田 俊一 ,  吉田 潤一郎 ,  飯野 智史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-541730
特許番号：特許第6042040号
出願日： 2016年01月07日
要約：

【要約】 加熱用照射装置は、加熱用電磁波を発生する電磁波発生器としての高周波発生器1と、高周波発生器1で発生した加熱用電磁波を被加熱物5に照射する複数のアンテナ3と、上面の一部が曲面状の凸部になっており、当該凸部の表面に各アンテナ3の照射口が取り付けられるとともに、被加熱物5を収容するための内部空間を有する、反応炉4とを備え、各アンテナ3の照射方向が被加熱物5の特定点6に向かうように、各アンテナ3は、反応炉4の凸部の表面に曲面状に配列されている。

請求項（抜粋）：

【請求項1】 加熱用電磁波を発生する電磁波発生器と、 前記電磁波発生器で発生した前記加熱用電磁波を被加熱物に照射する複数のアンテナと、 上面の一部が曲面状の凸部になっており、前記凸部の表面に各前記アンテナの照射口が取り付けられ、前記被加熱物を収容するための内部空間を有する、反応炉と を備え、 各前記アンテナの照射方向が前記被加熱物の特定点に向かうように、各前記アンテナは、前記反応炉の前記凸部の表面における1つの弧に沿って曲面状に一列に配列されている、 加熱用照射装置。

IPC (3件)：

H05B 6/72 ( 200 6.01) ,  H05B 6/74 ( 200 6.01) ,  H05B 6/80 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H05B 6/72 C ,  H05B 6/74 D ,  H05B 6/80 Z

引用特許：

出願人引用 (3件)

• マイクロ波処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-263809   出願人：パナソニック株式会社
• 電子レンジ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-167742   出願人：三菱電機株式会社
• 特許第5603134号
  

審査官引用 (3件)

• マイクロ波処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-263809   出願人：パナソニック株式会社
• 電子レンジ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-167742   出願人：三菱電機株式会社
• 特許第5603134号