マイクロ波処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：岩橋文雄 , 内藤浩樹 , 永野大介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-263809
公開番号（公開出願番号）：特開2010-092794
出願日： 2008年10月10日
公開日（公表日）： 2010年04月22日
要約：

【課題】加熱室の底壁面に略対称に配置した給電部間の位相差制御によりマイクロ波分布を操作することで、様々な被加熱物を高効率に加熱する装置を提供する。【解決手段】発振部1a、1c、電力分配部2a、2c、増幅部4a〜4d、被加熱物9を収納する加熱室8、加熱室8の壁面に配置されマイクロ波を放射する給電部5a〜5d、マイクロ波伝播路に挿入した位相可変部3a〜3dを備え、給電部5a〜5dより放射されるマイクロ波の位相差および発振周波数を最適制御することにより、様々な被加熱物9に対して反射電力を最小に抑制し高効率な加熱を実現させることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被加熱物を収容する加熱室と、発振部と、前記発振部の出力を複数に分配して出力する電力分配部と、前記電力分配部の少なくともひとつの出力位相を可変する位相可変部と、前記電力分配部および/または前記位相可変部の出力をそれぞれ電力増幅する増幅部と、前記増幅部の出力を前記加熱室に供給する給電部と、それぞれの前記給電部から前記増幅部方向に反射するマイクロ波電力を検出する電力検出部と、前記発振部の発振周波数と前記位相可変部の位相量を制御する制御部とを備え、前記給電部は、偶数ヶ所でかつ4ヶ所以上前記加熱室の底壁面に配置され、1つの軸上の点に対し略対称に加熱室の底壁面に配置されたマイクロ波処理装置。

IPC (5件)：

H05B 6/64 , B01J 19/12 , H05B 6/72 , H05B 6/74 , H05B 6/68

FI (6件)：

H05B6/64 D , B01J19/12 A , H05B6/72 D , H05B6/74 E , H05B6/64 G , H05B6/68 370

Fターム (20件)：

3K086AA01 , 3K086AA08 , 3K086BA05 , 3K086BA07 , 3K086DA14 , 3K090AA01 , 3K090AA02 , 3K090AB02 , 3K090BA03 , 3K090BB01 , 3K090DA17 , 3K090DA19 , 3K090EB04 , 4G075AA01 , 4G075CA02 , 4G075CA26 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EB01 , 4G075EB31

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開昭52-19342号公報
実開昭52-16654号公報
特開昭56-132793号公報

審査官引用 (5件)

マイクロ波処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-331530 出願人：松下電器産業株式会社
高周波加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-335337 出願人：松下電器産業株式会社
マイクロ波加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-169268 出願人：松下電器産業株式会社

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