特許
J-GLOBAL ID:201703012714384470
有機半導体素子の製造方法、有機半導体溶液の製造方法および塗布装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
吉川 修一
, 傍島 正朗
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-173203
公開番号(公開出願番号):特開2017-098225
出願日: 2016年09月05日
公開日(公表日): 2017年06月01日
要約:
【課題】有機半導体溶液の劣化を抑えつつ、有機半導体溶液を塗布することで形成される塗膜に泡噛みが発生することを抑制する有機半導体素子の製造方法等を提供する。【解決手段】有機半導体溶液Sを基材15に塗布する塗布工程を含む有機半導体素子1の製造方法であって、塗布工程の前において、有機半導体溶液Sおよび不活性ガスGが密閉容器50内に入れられており、密閉容器50内の不活性ガスGの圧力を、塗布工程における有機半導体溶液Sの周囲の環境圧力Peを基準として、陰圧と陽圧とに変化させながら、環境圧力Peに近づける。【選択図】図5B
請求項(抜粋):
有機半導体溶液を基材に塗布する塗布工程を含む有機半導体素子の製造方法であって、
前記塗布工程の前において、
前記有機半導体溶液と不活性ガスとが密閉容器内に入れられており、
前記密閉容器内の前記不活性ガスの圧力を、前記塗布工程における前記有機半導体溶液の周囲の環境圧力を基準として、陰圧と陽圧とに変化させながら前記環境圧力に近づける
有機半導体素子の製造方法。
IPC (4件):
H05B 33/10
, H01L 51/50
, B05C 5/00
, B05C 11/10
FI (4件):
H05B33/10
, H05B33/14 A
, B05C5/00 101
, B05C11/10
Fターム (16件):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC33
, 3K107CC45
, 3K107FF16
, 3K107GG06
, 3K107GG08
, 3K107GG28
, 3K107GG36
, 4F041AA05
, 4F041BA10
, 4F041BA13
, 4F041BA32
, 4F042AA10
, 4F042CA00
, 4F042CA09
引用特許: