特許
J-GLOBAL ID：201703013390922488
乾式研磨装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人東京アルパ特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-095466
公開番号（公開出願番号）：特開2016-209951
出願日： 2015年05月08日
公開日（公表日）： 2016年12月15日
要約：
【課題】ウエーハの温度が変化してもウエーハの厚みを正確に測定できるようにする。【解決手段】乾式研磨装置1は、研磨パッド25とスピンドル21との回転中心Oを貫通する貫通孔26を用いて研磨加工中のウエーハWを測定する測定手段40を備え、測定手段40は、研磨加工中のウエーハWの温度を測定する放射温度計42と、温温度測定光45を透過させるとともに貫通孔26の延在方向に対し直交する方向に光を反射させるミラー43と、投光部441から投光される厚み測定光46がウエーハWの上面Waと下面Wbとで反射することにより受光部443で受光するそれぞれの反射光47の光路長差によってウエーハWの厚みを算出する厚み測定器44とを備えたため、研磨加工中のウエーハWの温度が変化してもウエーハWの厚みを正確に測定可能となり、ウエーハWに対する過度な研磨を防止できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルが保持するウエーハを乾式にて研磨する研磨パッドが回転可能なスピンドルに装着されて構成される研磨手段と、該研磨手段と該チャックテーブルとを相対的に接近及び離間させる方向に研磨送りする研磨送り手段と、該研磨パッドと該スピンドルとの回転中心を貫通する貫通孔を介して研磨加工中のウエーハを測定する測定手段と、を備える乾式研磨装置であって、
該測定手段は、
該チャックテーブルに対向して配設され該チャックテーブルが保持するウエーハから放射される赤外光の温度測定光を受光することにより研磨加工中のウエーハの温度を測定する放射温度計と、
該温度測定光の光路上に配設され該温度測定光を透過させるとともに該貫通孔の延在方向に対して直交する方向に光を反射させるミラーと、
ウエーハの厚み測定に供する厚み測定光を投光する投光部と該厚み測定光の反射光を受光する受光部とを備え、該投光部から投光された該厚み測定光が該ミラーで反射し該貫通孔を通過しウエーハの上面と下面とにおいてそれぞれ反射した反射光が再び該貫通孔を通過し該ミラーで反射することにより該受光部が受光するそれぞれの反射光の光路長差によってウエーハの厚みを算出する厚み算出部を有する厚み測定器とを備え、
研磨加工中のウエーハの温度とウエーハの厚みとを測定することを特徴とする乾式研磨装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
3C034AA08
, 3C034BB25
, 3C034BB73
, 3C034BB93
, 3C034CA02
, 3C034CA19
, 3C034CB03
, 3C034CB14
, 3C034DD01
, 3C043CC13
, 3C043EE02
