特許

J-GLOBAL ID：201703013697260733

プラズマ源および当該プラズマ源を備える真空蒸着装置

発明者： デュミニカ、フローリン ダニエル ,  レクレルク、ヴィンセント ,  シルヴァーベルグ、エリック ,  ダニエル、アラン
出願人/特許権者： アルセロルミッタル インベスティガシオン イ デサロージョ エセ.エレ.
代理人 (1件)： 特許業務法人浅村特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-555599
特許番号：特許第6134394号
出願日： 2013年02月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板(9)上に被覆物を蒸着させることを目的としており電力源(P)に接続可能であるプラズマ源(1)において、 a)前記基板が配され得る位置の向かい側に孔(6)まで延びる放電キャビティ(3)を画定する電極(2)であって、断面が前記放電キャビティ内に突出し第1および第2中央壁(26、27)ならびに前記第1および第2中央壁(26、27)を繋ぎ合わせる最上部(28)を備える中央部分が設けてある底部(23、24)のいずれかに配された第1および第2側壁(21、22)を備える電極(2)と、 b)前記電極の外周に位置し、磁石ブラケット(46)により接続され前記放電キャビティに向かう露出極板および前記磁石ブラケットに向かう被保護極板をそれぞれ備える一組の磁石を備える磁石組立体(4)であって、 i)前記第1側壁(21)および第2側壁(22)それぞれの後方において前記孔(6)の両側に配置されており、自身の露出極板が同一の極性を有するような向きに配置されている少なくとも第1および第2側方磁石(41、42)と、 ii)前記第1中央壁(26)および第2中央壁(27)それぞれの後方に配置されており、自身の露出極板が前記第1および第2側方磁石(41、42)の前記露出極板とは逆の極性になるような向きに配置されている少なくとも第1および第2中央磁石(43、44)と、 iii)前記最上部(28)の後方に配置されており、自身の露出極板が前記第1および第2側方磁石(41、42)の前記露出極板と同一の極性になるような向きに配置されている少なくとも1つの先端磁石(45)とを備える磁石組立体(4)と、 c)前記孔を塞ぐことなく前記電極および前記磁石を囲むように配置された電気絶縁性容器(5)と を備えるプラズマ源。

IPC (3件)：

H05H 1/24 ( 200 6.01) ,  C23C 16/503 ( 200 6.01) ,  H01L 21/31 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H05H 1/24 ,  C23C 16/503 ,  H01L 21/31 C

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭62-238370
  
• 特開昭63-076328
  
• プラズマ処理用マグネトロン電極
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-033621   出願人：東レ株式会社
• TFT用ゲート膜等の成膜方法とその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-070071   出願人：三容真空工業株式会社
• プラズマからのイオン抽出を採用するPVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-271701   出願人：バリアン・アソシエイツ・インコーポレイテッド