特許
J-GLOBAL ID：201703013889572143
蒸着マスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小川 護晃
, 西山 春之
, 奥山 尚一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-279276
公開番号（公開出願番号）：特開2014-121720
特許番号：特許第6142386号
出願日： 2012年12月21日
公開日（公表日）： 2014年07月03日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 樹脂性フィルムの予め定められた位置に貫通する開口パターンをレーザ加工して形成する蒸着マスクの製造方法であって、
前記フィルムと該フィルムを支持する支持基板の平滑面との間に液膜のメニスカスを形成し、ラプラス圧力によって発生する吸着力により前記フィルムと前記支持基板とを密着させた後、前記開口パターンをレーザ加工することを特徴とする蒸着マスクの製造方法。
IPC (5件)：
B23K 26/00 ( 201 4.01)
, C23C 14/04 ( 200 6.01)
, B23K 26/36 ( 201 4.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, H05B 33/10 ( 200 6.01)
B23K 26/00 G
, C23C 14/04 A
, B23K 26/36
, H05B 33/14 A
, H05B 33/10
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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