特許

J-GLOBAL ID：201703014226329497

擁壁構造

発明者： 中村 拓造 ,  田村 修次
出願人/特許権者： 中村物産有限会社
代理人 (2件)： 細井 勇 ,  栗田 由貴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-041372
公開番号（公開出願番号）：特開2017-155526
出願日： 2016年03月03日
公開日（公表日）： 2017年09月07日
要約：

【課題】擁壁の本来の機能に支障をきたすことなく、急傾斜面に設置された擁壁の転倒の問題を防止する擁壁構造を提供する。【解決手段】擁壁構造100は、斜面に対峙する背面14と、背面14に対向し露出する前面12と、底面16とを備え、地盤(基礎地盤520)に配置された擁壁10と、底面16の下方に配置された調整部材20と、を有し、調整部材20が、所定厚みを有するとともに底面16の略全面に対し直接または間接に接しており、地盤(基礎地盤520)の地盤面G.Lの高さから底面16までの距離である擁壁10の見かけ根入れ深さD2よりも、地盤面G.Lの高さから調整部材20の部材底面22までの距離D1が大きくなるよう構成される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

斜面に対峙する背面と、前記背面に対向し露出する前面と、底面とを備え、地盤に配置された擁壁と、 前記底面下方に配置された調整部材と、を有し、 前記調整部材が、所定厚みを有するとともに前記底面の略全面に対し直接または間接に接しており、 前記地盤の地盤面の高さから前記底面までの距離である前記擁壁の見かけ根入れ深さよりも、前記地盤面の高さから前記調整部材の部材底面までの距離が大きいことを特徴とする擁壁構造。

IPC (2件)：

E02D 29/02 ,  E02D 3/10

FI (4件)：

E02D29/02 305 ,  E02D29/02 308 ,  E02D29/02 312 ,  E02D3/10 101

Fターム (4件)：

2D043DA04 ,  2D048AA45 ,  2D048AA74 ,  2D048CA11

引用特許：

審査官引用 (3件)

• セル構造体の施工方法およびセル構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-264764   出願人：東京インキ株式会社
• 建物基礎および建物基礎工法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-068014   出願人：ダイエープロビス株式会社
• 擁壁および擁壁の構築方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-182387   出願人：株式会社箱型擁壁研究所