特許
J-GLOBAL ID:201103080738348831

擁壁および擁壁の構築方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-182387
公開番号(公開出願番号):特開2011-032815
出願日: 2009年08月05日
公開日(公表日): 2011年02月17日
要約:
【課題】 本発明の第1の目的は、従来よりも簡単にかつ広い作業ヤード必要とせずに施工できる箱型擁壁の基礎及びその施工方法を提供することである。また第2の目的は、大きなせん断力に対抗できる安定した箱型擁壁の基礎及びその施工方法を提供することである。【解決手段】 起立した表面板と、該表面板より奥へ離間して起立した控板と、該表面板の左右方向途中部と該控板の左右方向途中部とを連結する繋ぎ板とを含む箱型ブロックを、 前記表面板と控板との間の空所に充填材を充填しつつ、左右に並べるとともに上下に複数段に積んで構築される擁壁において、 最下段の前記箱型ブロックの下に、多数のセルからなるハニカム構造をしたハニカム状立体補強材に粗粒状基礎材を充填したハニカム構造体からなる基礎を設けることを特徴とする擁壁。前記ハニカム構造体の下にジオグリッドを具備する擁壁。【選択図】図8
請求項(抜粋):
起立した表面板と、該表面板より奥へ離間して起立した控板と、該表面板の左右方向途中部と該控板の左右方向途中部とを連結する繋ぎ板とを含む箱型ブロックを、 前記表面板と控板との間の空所に充填材を充填しつつ、左右に並べるとともに上下に複数段に積んで構築される擁壁において、 最下段の前記箱型ブロックの下に、多数のセルからなるハニカム構造をしたハニカム状立体補強材に粗粒状基礎材を充填したハニカム構造体からなる基礎を設けることを特徴とする擁壁。
IPC (3件):
E02D 29/02 ,  E02D 17/20 ,  E02B 3/14
FI (4件):
E02D29/02 301 ,  E02D29/02 303 ,  E02D17/20 103H ,  E02B3/14 301
Fターム (13件):
2D044DB53 ,  2D048AA01 ,  2D048AA23 ,  2D048AA27 ,  2D118CA07 ,  2D118CA08 ,  2D118DA01 ,  2D118FA06 ,  2D118HA08 ,  2D118HA11 ,  2D118HB05 ,  2D118HD03 ,  2D118HD10
引用特許:
審査官引用 (11件)
全件表示

前のページに戻る