特許
J-GLOBAL ID：201703016022510250
マグネシウム基材の表面処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
森 寿夫
, 森 廣三郎
, 木村 厚
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-037238
公開番号（公開出願番号）：特開2014-162972
特許番号：特許第6100557号
出願日： 2013年02月27日
公開日（公表日）： 2014年09月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 マグネシウム又はマグネシウム合金からなるマグネシウム基材にプラズマ電解酸化処理を施すことにより、マグネシウム基材の表面に、表面粗さがRa0.8〜5.0μmであるセラミックス皮膜を形成するセラミックス皮膜形成工程と、
セラミックス皮膜形成工程で形成されたセラミックス皮膜に、金属、セラミックス又はサーメットから成る溶射材料を成膜することにより、セラミックス皮膜の表面に溶射皮膜を形成する溶射皮膜形成工程と
を経ることを特徴とするマグネシウム基材の表面処理方法。
IPC (3件)：
C23C 28/04 ( 200 6.01)
, C25D 11/30 ( 200 6.01)
, C23C 4/10 ( 201 6.01)
C23C 28/04
, C25D 11/30
, C23C 4/10
