特許
J-GLOBAL ID：201703016163057672

光学フィルムの活性化処理方法および製造方法、光学フィルムならびに画像表示装置

発明者：
品川 雅

品川 雅 について

, 
井上 龍一

井上 龍一 について


出願人/特許権者：
日東電工株式会社

日東電工株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-224997
公開番号（公開出願番号）：特開2017-072844
出願日： 2016年11月18日
公開日（公表日）： 2017年04月13日
要約：
【課題】積層された光学フィルムにおいて、その接着性向上と外観欠点の発生の防止との両立が可能な光学フィルムの活性化処理方法およびその製造方法を提供すること。【解決手段】ロールに沿って光学フィルムを搬送し、ロールの反対側から光学フィルムの活性化処理を行う方法において、ロールを冷却しながら活性化処理を行う。活性化処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理およびグロー放電処理の少なくとも1種であることが好ましく、光学フィルムとしては、偏光子および透明保護フィルムの少なくとも1種であることが好ましい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ロールに沿って光学フィルムを搬送し、前記ロールの反対側から光学フィルムの活性化処理を行う方法であって、 前記ロールを冷却しながら活性化処理を行うことを特徴とする光学フィルムの活性化処理方法。
IPC (3件)：
G02B 5/30 ,  B32B 7/02 ,  B32B 7/12
FI (3件)：
G02B5/30 ,  B32B7/02 103 ,  B32B7/12
Fターム (40件)：
2H149AA02 ,  2H149AA18 ,  2H149AA19 ,  2H149AB02 ,  2H149AB16 ,  2H149BA02 ,  2H149CA02 ,  2H149EA12 ,  2H149EA22 ,  2H149EA28 ,  2H149FA03W ,  2H149FA05X ,  2H149FA05Y ,  2H149FA66 ,  2H149FA70 ,  2H149FD37 ,  4F100AK21 ,  4F100AK26B ,  4F100AK42 ,  4F100AR00A ,  4F100AR00C ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100CB00B ,  4F100EA02 ,  4F100EC18 ,  4F100EH46 ,  4F100EJ37 ,  4F100EJ50 ,  4F100EJ55 ,  4F100EJ61 ,  4F100GB41 ,  4F100JB14B ,  4F100JN00A ,  4F100JN00C ,  4F100JN01A ,  4F100JN01C ,  4F100JN10A
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 特開昭56-50301号公報
  • 偏光板
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-353973   出願人：日本合成化学工業株式会社
  • 特許第3511111号明細書
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審査官引用 (7件)
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