特許
J-GLOBAL ID：201703016245113120
透明拡散OLED基材の製造方法及び得られた基材
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 蛯谷 厚志
, 出野 知
, 永坂 友康
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-533558
特許番号：特許第6114395号
出願日： 2013年09月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 以下の一連の工程、すなわち、
(a)平坦な半透明ガラス基材の片面又は両面を研磨スラリーを使用してラッピング加工して、算術平均偏差Raが0.1μmと2.0μmの間の粗さプロファイルを有する少なくとも1つの粗面を有する平板ガラス基材を得る工程、
(b)1つの粗面又は2つの粗面のうちの一方を、屈折率が少なくとも1.7の高屈折率ガラスフリットでコーティングする工程であって、高屈折率ガラスフリットの量を該フリットの溶融後に粗面の粗さプロファイルを完全に覆うのに充分なものとする工程、
(c)コーティングを施した基材を高屈折率ガラスフリットの溶融温度より高く下の基材の軟化温度より低い温度まで加熱して、一方の粗面の上に高屈折率エナメルを生じさせる工程、
を含む、透明な拡散OLED基材の製造方法。
IPC (8件)：
C03C 19/00 ( 200 6.01)
, C03C 17/04 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, H05B 33/02 ( 200 6.01)
, H05B 33/28 ( 200 6.01)
, C03C 8/04 ( 200 6.01)
, C03C 8/02 ( 200 6.01)
, B32B 9/00 ( 200 6.01)
C03C 19/00 Z
, C03C 17/04 A
, H05B 33/14 A
, H05B 33/02
, H05B 33/28
, C03C 8/04
, C03C 8/02
, B32B 9/00 A
