特許
J-GLOBAL ID：201703016291882597
光伝送基板の製造方法および光伝送基板
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-158606
公開番号（公開出願番号）：特開2014-194516
特許番号：特許第6140567号
出願日： 2013年07月31日
公開日（公表日）： 2014年10月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基板上に平面方向に延びるコア部と該コア部の周囲に配置されたクラッド層とを有する光導波路層を配置する工程と、
該光導波路層上に突起からなるか、凹部を有する凹凸構造を配置する工程と、
前記凹凸構造と前記コア部とに重なる直線に沿って、前記凹凸構造の一部を切除するとともに前記コア部を切断する工程とを有する光伝送基板の製造方法。
IPC (3件)：
G02B 6/122 ( 200 6.01)
, G02B 6/13 ( 200 6.01)
, G02B 6/42 ( 200 6.01)
G02B 6/122
, G02B 6/13
, G02B 6/42
