特許
J-GLOBAL ID：201703016626648560
細胞培養基材、細胞含有物の作製方法、細胞培養基材の作製方法、細胞観察方法、細胞培養基材のメンテナンス液
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
正林 真之
, 林 一好
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-101029
公開番号（公開出願番号）：特開2017-205082
出願日： 2016年05月20日
公開日（公表日）： 2017年11月24日
要約：
【課題】耐培養液性に優れ、細胞低毒性であり、かつ、培養した細胞の接着率や生細胞率が高く、熱安定性に優れ、また紫外光を吸収しにくい細胞培養基材を提供すること。【解決手段】無機材料で構成された基板を備える細胞培養基材であって、細胞培養基材は、培養面に複数の凹凸構造を有し、JISB0601及びJISR1683に準拠して原子間力顕微鏡で凹凸構造を測定したときに(測定領域は1μm四方、ローパス用輪郭曲線フィルタのカットオフ値が1nm、ハイパス用輪郭曲線フィルタのカットオフ値が170nmである)、少なくとも1つの方向についての凹凸構造の輪郭曲線要素の長さの平均が1〜170nmである(平均線は、前記ハイパス用輪郭曲線フィルタにより遮断される長波長成分を表す曲線を最小二乗法により直線に補正したとき、その直線と平行かつ、輪郭曲線における高さの累積相対度数分布50%を示す線である)、細胞培養基材。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
無機材料で構成された基板を備える細胞培養基材であって、
前記細胞培養基材は、培養面に複数の凹凸構造を有し、
JISB0601及びJISR1683に準拠して原子間力顕微鏡で前記凹凸構造を測定したときに(測定領域は1μm四方、ローパス用輪郭曲線フィルタのカットオフ値が1nm、ハイパス用輪郭曲線フィルタのカットオフ値が170nmである)、
少なくとも1つの方向についての前記凹凸構造の輪郭曲線要素の長さの平均が1〜170nmである(平均線は、前記ハイパス用輪郭曲線フィルタにより遮断される長波長成分を表す曲線を最小二乗法により直線に補正したとき、その直線と平行かつ、輪郭曲線における高さの累積相対度数分布50%を示す線である)、細胞培養基材。
IPC (4件)：
C12M 3/00
, C12N 1/00
, C12M 1/34
, C12N 5/07
C12M3/00 A
, C12N1/00 A
, C12M1/34 B
, C12N5/07
4B029AA08
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B029GA01
, 4B029GB09
, 4B029GB10
, 4B065AA87X
, 4B065BC41
, 4B065BC50
, 4B065BD50
